Inpria 金属酸化物 EUV レジスト

EUV 向け金属酸化物フォトレジストの設計・開発・製造を手がける米 Inpria の材料。JSR が 2021年10月に同社を完全子会社化した。

Inpria 金属酸化物 EUV レジストとは

Inpria の金属酸化物 EUV レジストは、米オレゴン州の Inpria が開発した EUV（極端紫外線）露光用のフォトレジストです。Inpria は EUV 向け金属酸化物フォトレジストの設計・開発・製造で世界をリードする企業です。

JSR は 2017年と 2020年の資金調達に参加して Inpria 株の 21% を持っていましたが、残りの株式を取得し、2021年10月29日に完全子会社化しました。買収額は 5億1,400万米ドルです。Inpria は社名とオレゴンの本拠地をそのまま残しています。

従来の有機系の化学増幅型レジストとは異なる金属酸化物系の材料で、EUV 露光によるパターニングの選択肢を広げるものとして位置づけられています。

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

複数の製品が掲載している項目を並べています。

項目	JSRInpria 金属酸化物 EUV レジスト	東京応化工業（TOK）EUV 用化学増幅型レジスト	信越化学工業EUV 用レジスト材料
対応露光波長	13.5 nm（EUV）	13.5 nm（EUV）	13.5 nm（EUV）
レジスト種別	金属酸化物系	化学増幅型	化学増幅型ポジ型
主要用途	先端ロジック・DRAM の EUV パターニング	先端ロジックの EUV 露光層	先端ロジック・メモリの EUV 層

1製品だけが掲載している項目（5件）

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

Inpria 金属酸化物 EUV レジストは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

EUVレジストは、波長13.5nmの極端紫外線（EUV）を用いた露光工程専用の感光性材料です。

Inpria はいつ JSR の子会社になりましたか？

2021年10月29日に買収手続きが完了し、JSR の完全子会社になりました。買収額は 5億1,400万米ドルです。

フォトレジスト・半導体材料の世界的大手。ArFi/EUVレジストのほか、CMPスラリー・洗浄液も展開。2023年に産業革新投資機構（JIC）が株式取得。