首頁 / 半導體入門 / 比較文章 / CoWoS與InFO的差異(台積電先進封裝比較) 比較 · 最後更新 2026年10月8日
CoWoS與InFO的差異(台積電先進封裝比較) CoWoS與InFO都是台積電提供的先進封裝技術。CoWoS是透過矽中介層將多顆晶片橫向並排、高密度連接的2.5D結構,被NVIDIA AI GPU(H100/H200/B100)與HBM的組合所採用。InFO是不使用矽中介層、僅以RDL(重布線層)構成的扇出型WLP,為Apple的主力SoC(A、M系列)實現薄型化與低成本化。兩者是用途、成本與結構根本不同的2種技術。
Verdict 結論
CoWoS與InFO最大的差異在於「有無矽中介層」。CoWoS是透過矽中介層將多顆晶片與HBM高密度連接的2.5D結構,用於NVIDIA H100等AI GPU。InFO則是不使用中介層、僅以RDL(重布線層)構成的薄型、低成本扇出型WLP,用於Apple A/M系列等行動SoC。
主要差異CoWoS與InFO依比較項目比較 比較項目 CoWoS InFO 結構類型 2.5D:在矽中介層上並排晶片,再搭載於IC載板 扇出型WLP:僅有RDL(重布線層),無矽中介層 中介層 使用矽(CoWoS-S)或玻璃(CoWoS-L)中介層 無中介層。將嵌入的晶片封膠後,在上下形成RDL 連接間距 以微凸塊(40~55μm間距)與中介層連接 以RDL導線(2~10μm線寬)直接連接 搭載HBM 可將HBM2E/HBM3/HBM3E與GPU安裝於同一中介層上 基本上不適合搭載HBM(以2D/薄型用途為主) 代表產品 NVIDIA H100、H200、B100/B200,AMD MI300X Apple A16/A17/M3、M4系列,部分通訊晶片 封裝成本 相對較高(中介層製造成本+良率) 低於CoWoS。可進行晶圓級批次處理 主要優點 超高頻寬(支援HBM)、小晶片設計自由度、I/O密度皆為最高水準 薄型、輕量、低成本,扇出結構可增加I/O腳數
CoWoS為何被主要AI GPU選用以NVIDIA H100為首的AI訓練用GPU,在GPU晶粒周圍搭載多組HBM(高頻寬記憶體)堆疊,實現超過1TB/s的頻寬。使這種HBM+GPU同平面配置成為可能的,正是CoWoS的矽中介層結構。中介層上10,000個以上的微凸塊負責超高密度I/O,並以與HBM之間的超短距離導線將頻寬最大化。在AI需求急增的背景下,CoWoS產能已成為台積電最重要的課題之一。
InFO為何適合薄型、低成本封裝InFO省略矽中介層,藉此削減材料成本與製造步驟。Apple SoC將CPU/GPU/Neural Engine整合在1顆晶粒上,因此比起CoWoS那種多晶粒並排的方式,薄型且高I/O數的RDL更為適合。InFO-PoP(Package-on-Package)則將DRAM疊在上方,實現智慧型手機用的超薄型封裝。
CoWoS-S/CoWoS-L/CoWoS-R的差異CoWoS有多種變體。CoWoS-S(Silicon)是傳統的矽中介層;CoWoS-L(Local Si Interconnect)結合玻璃或有機基板,適用於大型小晶片架構;CoWoS-R(RDL)則以薄RDL取代中介層,屬於重視成本的類型。隨著轉向High-NA EUV與2nm節點,各變體的適用範圍正在擴大。
常見問題CoWoS是什麼?(CoWoS是什麼) CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate)是台積電的2.5D先進封裝技術。在矽中介層上將多顆晶片(晶粒)與HBM橫向並排搭載,以微凸塊進行超高密度連接。被NVIDIA H100/H200等主要AI GPU的製造所採用,實現與AI訓練不可或缺的HBM之間的超寬頻連接。
InFO是什麼?(InFO是什麼) InFO(Integrated Fan-Out)是台積電的扇出型晶圓級封裝技術。不使用矽中介層,而是將晶片嵌入封膠材料中,再以RDL(重布線層)連接。薄型、輕量,被Apple A/M系列採用。與CoWoS相比較難搭載HBM,但在成本與薄型化上具優勢。
CoWoS為什麼被搭載HBM的GPU選用? CoWoS的矽中介層能將GPU晶粒與HBM堆疊就近配置於同一基板上。中介層上的微凸塊以超短距離、超高密度連接GPU與HBM,實現超過1TB/s的頻寬。要在同一封裝中搭載4~8組HBM堆疊,這種結構最為合適。
CoWoS與InFO的成本差距有多大? 確切數字並未公開,但由於CoWoS需要矽中介層的製造成本與良率管理,一般認為成本遠高於InFO。據稱NVIDIA H100封裝成本中相當大的部分來自CoWoS。InFO透過晶圓級處理較容易發揮規模效益,量產成本往往低於CoWoS。
除了台積電的CoWoS,還有類似技術嗎? 有。英特爾(Intel)的EMiB是使用有機中介層以壓低成本的2.5D技術,三星(Samsung)的I-Cube(I-Cube4/8)是相當於台積電CoWoS的矽中介層技術,日月光(ASE)、艾克爾(Amkor)等晶圓代工與OSAT業者也推出客製化的2.5D/fanout技術。隨著AI小晶片市場擴大,各公司的技術競爭正在加速。
2.5D與3D封裝有何不同? 2.5D(CoWoS等)是將多顆晶粒並排配置在中介層上。3D(SoIC或Cube等)則是將多顆晶粒沿垂直方向堆疊,以TSV或混合鍵合連接。3D的頻寬密度最高但散熱設計困難,2.5D則在各方面較為均衡,是目前的最主流。詳情請參閱比較文章。