GT66A的特點與規格

GT66A 是 Gigaphoton 的 ArF 浸潤式微影用光源（準分子雷射）。2021年10月27日發表，支援 5nm 節點與次世代節點的半導體製造。

將斑點對比（speckle contrast）降低 30%，以減少曝光圖案的偏移（EPE），並抑制微細圖案的凹凸（LER）與圖案寬度的變異（LWR）。微縮越進展，光源特性對圖案品質的影響就越大。

以高耐久性零件將保養週期延長 30%，提高設備的可用率與生產力。以自動駕駛、高性能伺服器等所使用的高階元件用半導體生產為對象。