GT66A

ギガフォトンの ArF 液浸リソグラフィ用光源。5nm ノード以降を想定し、2021年に本格稼働した。

GT66Aとは

GT66A は、ギガフォトンの ArF 液浸リソグラフィ用の光源（エキシマレーザー）です。2021年10月27日に発表され、5nm ノードと次世代ノードの半導体製造に対応します。

スペックルコントラストを 30% 下げることで、露光パターンのずれ（EPE）を減らし、微細パターンの凹凸（LER）とパターン幅のばらつき（LWR）を抑えます。微細化が進むほど、光源の性質がパターンの品質に与える影響は大きくなります。

高耐久性の部品によりメンテナンスサイクルを 30% 延ばし、装置のアベイラビリティと生産性を高めました。自動運転やハイパフォーマンスサーバーなどに使われるハイエンドデバイス用半導体の生産を想定しています。

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	ギガフォトンGT66A	コヒレント（Coherent Corp.）LEAP シリーズ
レーザー種別	ArF エキシマ（液浸露光用）	UV エキシマ（高パルスエネルギー）
特徴	スペックルコントラスト 30% 低減・メンテナンス周期 30% 延長	高デューティサイクル・低保有コスト
主要用途	5nm 以降の ArF 液浸露光光源	先端パッケージの ELA・レーザーリフトオフ・PLD