準分子雷射振盪器是什麼

準分子雷射振盪器是以放電激發稀有氣體與鹵素的混合氣體，發出紫外光的光源。KrF 產生 248nm、ArF 產生 193nm 的波長，作為 DUV 曝光機的光源，奠定解析度的基礎。要求的不只是輸出功率，還有波長的窄頻化（為了抑制色差）與每個脈衝的能量穩定性，並需具備以數千 Hz 的重複頻率長時間持續運作的可靠度。也用於雷射退火與雷射剝離等加工用途，是光源本身即為設備性能上限的類別。

重點整理

以稀有氣體與鹵素的放電激發，發出 KrF 248nm・ArF 193nm 的紫外光
作為 DUV 曝光機的光源，奠定解析度的基礎
窄頻化與脈衝能量穩定性比輸出功率更重要
也用於雷射退火與剝離等加工用途

相關用語

EUV 光源是什麼→氖氣（準分子雷射用稀有氣體）是什麼→EUV 曝光機是什麼→DUV 曝光機是什麼→i-line 步進機是什麼→浸潤式微影（ArF 浸潤式）是什麼→光罩是什麼→光阻是什麼→塗佈顯影機是什麼→High-NA EUV 曝光是什麼→光罩（Reticle）是什麼→奈米壓印微影（NIL）是什麼→曝光機（微影設備）是什麼→EUV（極紫外光）微影是什麼→DUV（深紫外光）是什麼→ArF 浸潤式微影是什麼→準分子雷射（Excimer Laser）是什麼→

比較文章

驅動・光學單元的其他分類

超音波・兆音波換能器

超音波・兆音波換能器是對清洗液施加高頻聲波，以其物理力使晶圓表面的微粒剝離的零組件。

光學單元・UV 燈

光學單元・UV 燈是在設備內產生光、整形光，並將光導引至所需位置的一系列零組件。

各類感測器・馬達

各類感測器・馬達是偵測設備狀態、驅動機構的基礎零組件。

精密載台・干涉儀

精密載台・干涉儀是承載並移動晶圓，以 nm 精度量測其位置的單元。

隔振系統

隔振系統是阻隔從地板傳來的振動與設備本身產生的振動，讓精密單元處於安靜環境的機構。

晶圓傳送機械手臂・取放系統

晶圓傳送機械手臂・取放系統是在載具與製程腔體之間夾取、搬運、放置晶圓的機構。

準分子雷射振盪器的主要機型（2）

所屬主題

半導體企業一覽
設備・材料・晶圓代工・IC 設計・封測企業的據點與主力產品
→