最後更新:2026年10月23日玻璃核心基板・TGV 加工設備

NEXAR LIDE的特點與規格

LPKF Laser & Electronics・玻璃核心基板・TGV 加工設備

以雷射誘導深蝕刻(LIDE)在玻璃上形成玻璃穿孔(TGV)・盲孔・凹槽的設備。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

NEXAR LIDE 是 LPKF 玻璃基板用設備 NEXAR 系列中,在玻璃上形成玻璃穿孔(TGV)、盲孔、凹槽等微細結構的設備。LPKF 將此系列定位為針對先進封裝玻璃基板、可延伸至量產的系統平台。

據 LPKF 表示,通孔直徑從 5µm 起,深寬比最大 1:50,側壁粗糙度低於 Ra 0.1µm,在 515 × 510mm 面板上實現 ±5µm 的位置精度。0.2~1.1mm 的玻璃厚度可以 1 次照射處理,量產時的不良率(NG 率)據稱低於 5ppm。

同一台設備也可在 1 片基板上形成盲孔、微流道、光學用 V 型槽、凹槽、切割道,以及多階 2.5D 結構。NEXAR 系列有手動上料的 M、晶圓自動搬送(整合 EFEM)的 S、面板自動化的 P 共 3 種配置,可與用於去除 RDL 的 NEXAR Ablate、用於玻璃接合的 NEXAR Bond 搭配使用。

主要規格

方式雷射誘導深蝕刻(LIDE)
通孔直徑 5 µm 起,深寬比最大 1:50
適用基板晶圓最大 300 mm/面板 515 × 510 mm
玻璃厚度0.2~1.1 mm(1 次照射處理)
位置精度±5 µm(515 × 510 mm 面板)

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

通孔直徑 5µm 起,深寬比最大 1:50
側壁粗糙度低於 Ra 0.1µm,515 × 510mm 面板位置精度 ±5µm
玻璃厚度 0.2~1.1mm 以 1 次照射處理
研發用(M)・晶圓量產(S)・面板量產(P)3 種配置

主要用途

  • 玻璃核心基板的玻璃穿孔(TGV)形成
  • 玻璃中介層・凹槽・光學用 V 型槽的加工

製造商

LPKF Laser & Electronics(總部:德國)

所屬設備分類

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資料來源

  1. LPKF Laser & Electronics 官方產品頁面:LPKF NEXAR