PHI GENESIS

アルバック・ファイの多機能走査型 X 線光電子分光分析装置（XPS）のフラッグシップ機。試料の自動交換で多検体を自動分析する。

PHI GENESISとは

PHI GENESIS は、アルバック・ファイの走査型 X 線光電子分光（XPS）装置です。試料に X 線を当てて飛び出す光電子のエネルギーを測り、表面の元素とその化学状態を分析します。高性能な XPS 分析機能に加えて、高い拡張性を持つのが特長です。

同じ装置内、同じ測定点で、さまざまな表面電子分光の分析を行えます。硬 X 線光電子分光（HAXPES）、紫外光電子分光（UPS）、低エネルギー逆光電子分光などに対応します。

5µm 未満に絞った X 線ビームを試料上で走査して二次電子像（SXI）を得られるため、SEM のようにリアルタイムで注目領域に移動し、分析領域を選べます。金属、半導体、セラミックス、有機物の表面の化学状態分析に使われます。

分析手法	XPS（走査型マイクロ X 線）
特徴	ロボットによる全自動分析・絶縁物自動中和・クラスターイオン深さ方向分析
主要用途	金属・半導体・セラミックス・有機物の表面化学状態分析

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	アルバック・ファイPHI GENESIS	日本電子（JEOL）JAMP-9510F	島津製作所KRATOS ULTRA2（英国名 AXIS Supra+）	リガク（Rigaku）TXRF 3760
分析手法	XPS（走査型マイクロ X 線）	AES（オージェ電子分光）	XPS（イメージング XPS）	TXRF（全反射蛍光 X 線）
特徴	ロボットによる全自動分析・絶縁物自動中和・クラスターイオン深さ方向分析	分析分解能 8 nm・像分解能 3 nm・最大 200 nA	イメージング空間分解能 1 µm・DLD 2 次元検出器	Na ～ U を測定・液体窒素不要の検出器・ゼロエッジ除外（オプション）
主要用途	金属・半導体・セラミックス・有機物の表面化学状態分析	微小領域の組成・化学状態分析	極表面の元素・化学結合状態・深さ方向分析	ウェーハ表面の金属汚染分析