ナノインプリントリソグラフィ（NIL）メーカー1社

ナノインプリントリソグラフィ（NIL：Nanoimprint Lithography）は、マスク（テンプレート）のナノ構造パターンを紫外線硬化樹脂などの材料に直接押し付けてパターンを転写するリソグラフィ技術です。光の回折限界に縛られず、10nm以下の微細パターンを比較的低コストで形成できる可能性があります。EUV露光と比較して装置コストが低い一方、スループット・テンプレート管理・欠陥制御に課題があります。NAND型フラッシュメモリのホールパターン形成への量産適用が進んでおり、既存DUV露光との組み合わせ（ハイブリッドリソグラフィ）も検討されています。パターン転写精度はテンプレートの精度と離型性、樹脂材料の物性が決定します。