SEC-22Cとは
SEC-22C は、昭和真空の真空蒸着装置です。電極膜と酸化膜を成膜でき、蒸着物がウェーハに垂直に入射するよう構成されたリフトオフ工程対応型です。φ4 インチ・φ6 インチのウェーハを扱います。
4.0×10⁻⁴Pa まで 20 分で到達する高速排気、φ4 インチ面内で ±1.0% 以下の膜厚分布、T/S 1,100mm 時に φ6 インチで入射角 5 度以下という垂直入射性能を持ちます。補正板 4 式で 4 材料の膜厚分布を調整でき、Al 蒸着は従来比 3 倍に高速化しました。
オプションのイオンソースで基板のクリーニングやアシスト蒸着にも対応します。排気系はクライオポンプ・ドライポンプ・メカニカルブースターポンプの構成で、設置寸法は W2,500×D4,300×H2,800mm です。用途は電子部品の電極膜形成、リフトオフプロセス、保護膜用の酸化膜形成です。
主な特長
- •リフトオフ対応の垂直入射（φ6 インチで入射角 5° 以下）
- •膜厚分布 ±1.0% 以下（φ4 インチ面内）
- •4.0×10⁻⁴Pa まで 20 分の高速排気
- •Al 蒸着を従来比 3 倍に高速化、イオンソース（オプション）
主な仕様
| 蒸発源 | 電子ビーム（水晶振動式膜厚モニタで制御） |
|---|---|
| 対応基板 | φ4 インチ・φ6 インチウェーハ |
| 基板ホルダ | 垂直入射配置（φ6 インチで入射角 5° 以下） |
| 主要用途 | リフトオフによる電極膜・保護用酸化膜の形成 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •リフトオフによる電極膜形成
- •保護膜用の酸化膜形成
掲載カテゴリ
SEC-22Cは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
昭和真空
真空装置の開発・製造・販売を行う。水晶振動子など水晶デバイスの周波数調整装置、スマートフォンカメラレンズ向けなどの光学薄膜用真空蒸着装置、スパッタリング装置を手がける。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06