ei-5とは
ei-5 は、ULVAC（アルバック）のバッチ式真空蒸着装置です。蒸発源は電子ビーム（EB）、抵抗加熱、EB＋抵抗加熱から選べ、直径 50〜200mm のウェーハや角形基板を扱えます。基板材質は Si、化合物、ガラス、セラミックに対応します。
基板ホルダーは公転、プラネタリ、サテライトから選択でき、蒸発源と基板の距離は 680mm、標準の排気系には 16 インチのクライオポンプを使います。排気から成膜までを自動で行い、PC 操作によるレシピ機能、データロギング、メンテナンスアシスト機能を備えています。
姉妹機の EVD-600LP はリフトオフ工程向けで、より多くの基板を搭載できます。用途はパワーデバイス、LED・LD、高速デバイスの電極形成や、実験用途、電子部品全般です。
主な特長
- •EB／抵抗加熱／EB＋抵抗の蒸発源
- •Φ50〜200mm・角形基板（Si・化合物・ガラス・セラミック）
- •公転・プラネタリ・サテライトの基板ホルダー
- •自動排気・成膜、レシピ・データロギング
主な仕様
| 蒸発源 | EB・抵抗加熱・EB＋抵抗 |
|---|---|
| 対応基板 | Φ50 ～ Φ200 mm・角形基板（Si・化合物・ガラス・セラミック） |
| 基板ホルダ | リフトオフ・プラネタリ・サテライト |
| 主要用途 | パワー・LED・LD・高速デバイスの電極形成 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •パワーデバイス・LED・LD の電極形成
- •高速デバイス・電子部品の金属膜
掲載カテゴリ
ei-5は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
ULVAC（アルバック）
真空技術を核に、スパッタ・CVD・蒸着・エッチング・測定装置を手がける日本の総合真空機器メーカー。半導体に加えFPD・太陽電池にも展開。
真空蒸着装置のほかの製品
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06