ei-5／EVD-600LP（蒸着装置）

研究開発・少量生産向けの汎用蒸着装置 ei-5 と、リフトオフ向けの量産蒸着装置 EVD-600LP。

ei-5／EVD-600LPとは

ei-5 と EVD-600LP は、アルバックのバッチ式蒸着装置です。研究開発から少量生産向けの汎用モデル ei-5 と、リフトオフプロセス向けの量産モデル EVD-600LP があります。

基板の上に金属や酸化物を成膜するための装置で、操作パネルからの集中制御で、排気と成膜の操作を自動で行えます。EB、抵抗加熱、EB と抵抗の組み合わせなど多様な蒸発源を搭載でき、レシピ機能、データロギング、保守支援などの機能を PC で操作できます。

Φ50〜200mm や矩形の基板、Si、化合物、ガラス、セラミックなど各種の基板に対応します。EVD はリフトオフ性能を改善し、より多くの基板を搭載できます。パワーデバイスなどの化合物、LED・LD・高速デバイスの電極形成に使われます。

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	ULVAC（アルバック）ei-5	ULVAC（アルバック）ei-5／EVD-600LP（蒸着装置）	昭和真空SEC-22C
蒸発源	EB・抵抗加熱・EB＋抵抗	EB ガン・抵抗加熱	電子ビーム（水晶振動式膜厚モニタで制御）
対応基板	Φ50 ～ Φ200 mm・角形基板（Si・化合物・ガラス・セラミック）	—	φ4 インチ・φ6 インチウェーハ
基板ホルダ	リフトオフ・プラネタリ・サテライト	—	垂直入射配置（φ6 インチで入射角 5° 以下）
主要用途	パワー・LED・LD・高速デバイスの電極形成	—	リフトオフによる電極膜・保護用酸化膜の形成

1機種だけが掲載している項目（2件）

基板	—	Φ50〜200mm・矩形、Si・化合物・ガラス・セラミック	—
基板ホルダー	—	公転・プラネタリ・サテライト（ei-5）	—

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。