最後更新:2026年10月23日光罩清洗・乾燥設備

MaskTrack Pro的特點與規格

SUSS MicroTec・光罩清洗・乾燥設備

SUSS 針對 193i・EUV・NIL 光罩進行清洗・烘烤・顯影的平台,以 EUV 為前提設計。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

MaskTrack Pro 是 SUSS MicroTec 用於光罩清洗・烘烤・顯影的旗艦平台,處理先進產業用微影所需的光罩。

清洗技術包括雙兆音波與高壓全噴流、刷洗、原位(in-situ)SC1/SPM、UV 乾式清洗、超純水製程、背面沖洗,以及防 ESD 選配。

針對 EUV 光罩,推出同步進行光罩清洗・傳送・檢測・保管的 MaskTrack Pro InSync。可與曝光機的 EUV 雙層光罩盒(dual pod)直接連接,在零微粒的環境中一併進行內盒的清洗・傳送・保管,維持光罩進入曝光機真空環境前的潔淨度。

主要規格

清洗方式雙兆音波・高壓噴流・刷洗・SC1/SPM・UV 乾式清洗
對應光罩193i・EUV・NIL 光罩
特點ISO 14644 Class 2 環境・支援 SECS/GEM
主要用途先進光罩的清洗

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

雙兆音波・高壓噴流・刷洗
in-situ SC1/SPM・UV 乾式清洗
針對 EUV 光罩的 MaskTrack Pro InSync

主要用途

  • 先進光罩的清洗
  • EUV 光罩的清洗・管理

製造商

SUSS MicroTec(總部:德國)

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資料來源

  1. SUSS MicroTec 官方產品頁面:SUSS MaskTrack Pro Series
  2. SUSS MicroTec 官方產品頁面:Semiconductor Digest MaskTrack Pro InSync