MaskTrack Pro

193i・EUV・NIL 向けフォトマスクの洗浄・ベーク・現像を行う SUSS のプラットフォーム。EUV を前提に設計されている。

MaskTrack Proとは

MaskTrack Pro は、SUSS MicroTec のフォトマスク洗浄・ベーク・現像用のフラッグシップ・プラットフォームです。先端の産業用リソグラフィ向けのフォトマスクを処理します。

洗浄技術として、デュアルメガソニックと高圧のフルジェット、ブラシ洗浄、その場（in-situ）の SC1／SPM、UV ドライ洗浄、超純水プロセス、裏面リンス、ESD 対策のオプションを備えます。

EUV マスク向けには、マスク洗浄・搬送・検査・保管を同期させる MaskTrack Pro InSync を展開しました。露光装置の EUV デュアルポッドと直接つながり、パーティクルゼロの環境でインナーポッドの洗浄・搬送・保管をまとめて行い、マスクが露光装置の真空環境に入る前の清浄度を保ちます。

主な特長

•デュアルメガソニック・高圧ジェット・ブラシ洗浄
•in-situ SC1／SPM・UV ドライ洗浄
•EUV マスク向けの MaskTrack Pro InSync

主な仕様

洗浄方式	デュアルメガソニック・高圧ジェット・ブラシ・SC1/SPM・UV ドライ洗浄
対応マスク	193i・EUV・NIL マスク
特徴	ISO 14644 Class 2 環境・SECS/GEM 対応
主要用途	先端フォトマスクの洗浄

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	Suss MicroTecMaskTrack Pro	芝浦メカトロニクスARTS®（MC-150 シリーズ）
洗浄方式	デュアルメガソニック・高圧ジェット・ブラシ・SC1/SPM・UV ドライ洗浄	高温薬液・薬液メガソニック・凍結洗浄（ダメージレス）
対応マスク	193i・EUV・NIL マスク	6025 フォトマスク
特徴	ISO 14644 Class 2 環境・SECS/GEM 対応	メタルフリー構造
主要用途	先端フォトマスクの洗浄	フォトマスクの微小異物除去