Sigmameltec MRC 是應用材料的光罩清洗設備。配合 193nm 浸潤式（193i）與 EUV 曝光所使用的精密光罩，不採用強烈的化學品處理，而是以溫和的化學品與高頻兆音波去除微小微粒。
以下游電漿在不損傷光罩的情況下去除光阻與有機物，也能因應 EUV 光罩的碳汙染。以濕式用機械手臂連接 2 個清洗腔室，將化學品清洗與最終清洗分開。化學品可從臭氧水、CO₂ 水、添加 TMAH 的水、SPM、SC-1 等之中選擇。
具備有「聲波刷」效果的高頻兆音波、附 UV 照射的臭氧水噴嘴、噴射微小液滴的噴嘴、真空烘烤腔室，以及不需翻面即可清洗背面的兆音波。以不使用硫酸鹽、銨也少的製程，防止 193i 光罩發生霧化（haze）。