光罩清洗・乾燥設備是什麼
光罩清洗・乾燥設備是去除附著在光罩（Reticle）表面之微粒、有機汙染、霧化（Haze）的設備。1片光罩會反覆用於曝光，因此光罩上的 1個缺陷會轉印到晶圓上的所有曝光區（Shot）。採用化學藥液清洗、Megasonic 清洗、CO₂ 雪花清洗等方式，抑制清洗造成的圖案膜損與對相位移材料的損傷是技術上的要點。EUV 光罩受光罩保護膜的限制，清洗要求更加嚴格。
重點整理
去除光罩表面的微粒・有機汙染・霧化
光罩上的 1個缺陷會轉印到晶圓所有曝光區，因此要求嚴格
有化學藥液・Megasonic・CO₂ 雪花等多種清洗方式
要點在於抑制清洗造成的圖案膜損與對相位移材料的損傷
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