信越化学工業

フォトレジストは、露光工程でマスクの回路パターンをウェハ上に転写するために使用される感光性高分子材料です。

半導体材料は、ウェハ・フォトレジスト・特殊ガス・CMPスラリー・封止樹脂・リードフレーム・ボンディングワイヤなど、半導体製造の各工程で使用される多様な材料群の総称です。

半導体材料は、製造プロセスの各工程で使用される化学物質・消耗材料の総称です。

特殊基板は、シリコンや化合物半導体以外の材料で作るウェハの総称で、サファイア・タンタル酸リチウム（LT）・ニオブ酸リチウム（LN）・水晶・ガラスなどが含まれます。