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CONFERENCE

IIRW(IEEE集積信頼性ワークショップ)

IEEEが主催する、集積回路の信頼性を扱う国際会議。

01開催概要


正式名称
IEEE International Integrated Reliability Workshop
主催
IEEE
次回の会期
未発表(例年10月頃)
開催地
米国(カリフォルニア)
例年の開催
10月頃・米国(カリフォルニア)
分野
信頼性・メモリ
格付け
専門の国際会議集積回路の信頼性という特定のテーマに絞って開かれている国際会議のため、専門の国際会議としています。格付けの決め方
公式サイト
www.iirw.org(2026/10/24 確認)

02IIRWはどんな学会か


IIRWは、IEEEが主催する、集積回路の信頼性を扱う国際会議です。2026年は10月 サウスレイクタホ(米国)。例年10月ごろに開かれます。

トランジスタの劣化(BTI・HCI)や絶縁膜の破壊など、信頼性の評価とモデルを少人数で議論するワークショップです。

03注目の技術


IIRWでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • TDDB(酸化膜経時破壊)

    TDDB(Time-Dependent Dielectric Breakdown:経時的絶縁破壊)は、ゲート絶縁膜(ゲート酸化膜やHigh-k膜)に電界をかけ続けると、ある時間が経過した後に突然絶縁性を失い破壊に至る信頼性劣化現象です。

  • NBTI(負バイアス温度不安定性)

    NBTI(Negative Bias Temperature Instability:負バイアス温度不安定性)は、pMOSFETに負のゲート電圧を高温で印加し続けると、しきい値電圧(Vth)が時間とともに上昇し、駆動能力が低下していく信頼性劣化現象です。

  • ホットキャリア注入(HCI)

    ホットキャリア注入(HCI:Hot Carrier Injection)は、トランジスタのドレイン近傍の強い電界で加速された高エネルギーのキャリア(ホットキャリア)が、ゲート絶縁膜に飛び込んで界面準位やトラップを生成し、デバイス特性を経時的に劣化させる信頼性現象です。

  • エレクトロマイグレーション

    エレクトロマイグレーション(Electromigration:EM)は、半導体チップの金属配線(主に銅)に高密度の電流が流れる際、電子の運動量移乗により金属原子が電流の流れる方向へ移動する現象です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。