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ガス供給・流量制御(MFC)メーカー8

ガス供給・流量制御サブシステムは、プロセスガスや特殊ガスを正確な流量・圧力で装置のチャンバーへ供給する機器群です。中核となるマスフローコントローラ(MFC)が流量を高精度に制御し、ガスボックス・バルブ・レギュレータ・圧力計が組み合わさってガスパネル(ガスデリバリーシステム)を構成します。流量・混合比の精度がプロセスの再現性を決定し、腐食性・毒性ガスを扱うため安全性とパーティクル管理が厳しく要求されます。

メーカー 8関連カテゴリ 6

主要特徴

MFC(マスフローコントローラ)でプロセスガス流量を高精度制御
ガスボックス・バルブ・レギュレータでガスパネルを構成
流量・混合比の精度がプロセス再現性を決定
腐食性・毒性ガス対応の安全性とパーティクル管理が必須

よくある質問

マスフローコントローラ(MFC)とは?
ガスの流量を測定しながら設定値に自動制御する機器です。半導体プロセスでは数sccm〜数slmの流量を高精度に制御します。
ガスデリバリーシステムの役割は?
プロセスガス・特殊ガスを正確な流量と圧力で安全にチャンバーへ届ける役割を担い、プロセスの安定性と安全性を支えます。

メーカー

8社の主要メーカー

MKS Instruments米国

ガス流量制御・圧力制御・RFパワー・プラズマ源など、半導体製造プロセスを支えるサブシステム機器の主要メーカー。Newport光学部門も保有。

ガス制御機器
マスフローコントローラ圧力コントローラ
RF・プラズマ機器
RFジェネレータマッチングネットワーク
計測・光学
Newport光学部品レーザー光源
  • マスフローコントローラ(MFC)でグローバルリーダー
  • RF電力供給・圧力制御・真空計測の統合ソリューション
堀場製作所日本

分析・計測機器の国内大手メーカー。半導体製造向けにはガス分析計・パーティクルカウンタ・分光エリプソメータなど、プロセス管理に不可欠な計測機器を展開する。

分析・計測装置
ガス分析計パーティクルカウンタ分光エリプソメータ
  • 分析・計測機器で国内大手
  • 半導体プロセス向けガス分析に強み
フジキン(Fujikin)日本

超高純度対応のバルブ・継手・レギュレータを手掛ける流体制御機器メーカー。半導体プロセスガス向けのダイヤフラムバルブや、MFCを組み込んだガスボックス(ガスパネル)をユニットで供給する。

流体制御機器
ダイヤフラムバルブガスボックス(ガスパネル)レギュレータ
  • 超高純度(UHP)流体制御機器の設計技術
  • ダイヤフラムバルブ・継手で高いシェア
CKD日本

空圧・流体制御機器の大手。半導体分野では超高純度ガス用バルブ、薬液用の耐薬品バルブ・ポンプ、ガスユニットを供給し、装置内の流体制御を支える。

流体制御機器
高純度ガスバルブ薬液用バルブ・ポンプガスユニット
  • 空圧機器と流体制御機器の総合ラインナップ
  • 半導体向け高純度・耐薬品バルブ
キッツエスシーティー(KITZ SCT)日本

総合バルブメーカーKITZグループの半導体向け専業会社。超高純度ガス用ダイヤフラムバルブ、腐食性ガス対応バルブ、真空・排気ライン用バルブを供給する。

バルブ
ダイヤフラムバルブ腐食性ガス用バルブ真空ライン用バルブ
  • 半導体プロセスガス用バルブの専業
  • 腐食性・毒性ガス対応の耐食設計
Entegris米国

半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア(FOUP)・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。

CMPスラリー・パッド
Optima CMPスラリー研磨パッド
フィルタ・精製装置
超純水フィルタガス精製器
ウェハ搬送材料
FOUPウェハシッパー
  • 半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ(CMC Materials統合後)
  • 超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理
Ultra Clean Holdings(UCT)米国

半導体製造装置向けサブシステム・部品・洗浄サービスのアウトソーシング専業企業。AMAT・Lam Research・ASMLなど大手OEMを主要顧客に持つ。

ガス供給サブシステム
ガスパネルガスボックス
チャンバー部品
プロセスキットリングアセンブリ
  • 主要装置OEM向けガス流路モジュールのトップサプライヤー
  • チャンバー部品の精密加工・洗浄再生サービス
エア・ウォーター日本

産業ガスを中核とする国内大手。窒素・酸素・水素などのバルクガスに加え、半導体プロセス向けの各種特殊ガスや、オンサイト供給設備・ガス供給配管システムを手掛ける。

産業ガス
高純度窒素水素アルゴン
特殊ガス・設備
半導体用特殊ガスオンサイト供給設備ガス供給配管
  • バルクガスと特殊ガスの両方を供給
  • オンサイト発生設備によるファブ向け供給体制

関連カテゴリ

消耗部品・部品洗浄/再生
装置制御ソフトウェア・受託開発
RF電源・電源システム
石英・セラミック部品
真空ポンプ
ウェハキャリア・FOUP・EFEM

関連用語

マスフローコントローラ(MFC)とは →ドライ真空ポンプとは →ターボ分子ポンプ(TMP)とは →クライオポンプとは →真空計とは →ゲートバルブ/スリットバルブとは →ロードロック室とは →ガスボックス(ガスパネル)とは →ダイヤフラムバルブとは →ガス精製器・ガスフィルタとは →薬液供給システム(CDS)とは →除害装置(スクラバー)とは →

比較・違いを学ぶ

ドライ真空ポンプとターボ分子ポンプの違い
半導体製造装置の排気系は、大気圧から超高真空まで10桁以上の圧力範囲をカバーしなければなりません。単一のポンプでこれを賄うことはできないため、粗引きを担うドライ
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