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RF電源・電源システムメーカー4

RF電源・電源システムは、プラズマを用いるエッチング・CVD(PECVD)・PVD(スパッタ)装置に高周波/直流電力を供給するサブシステムです。RFジェネレータとインピーダンス整合を行うマッチングネットワークが対になり、プラズマの安定性・密度・イオンエネルギーを精密に制御します。プロセスの再現性とウェハ面内均一性は電源の出力安定度と応答速度に大きく依存し、微細化が進むほどパルス制御など高度な電源技術が求められます。

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主要特徴

プラズマプロセス(エッチング・PECVD・スパッタ)に電力を供給
RFジェネレータ+マッチングネットワークでプラズマを安定制御
出力安定度・応答速度がプロセス再現性と面内均一性を左右
微細化に伴いパルス変調など高度な電源制御が必要

よくある質問

マッチングネットワークとは何ですか?
RF電源とプラズマ負荷のインピーダンスを整合させ、電力を効率よく投入して反射波を抑える回路です。プラズマの安定動作に不可欠です。
RF電源がプロセスに与える影響は?
出力の安定度や応答速度がプラズマ密度・イオンエネルギーを決め、エッチング形状や成膜品質、ウェハ面内均一性に直結します。

メーカー

4社の主要メーカー

Advanced Energy Industries米国

半導体製造装置向けRF電源・直流電源・マッチングネットワークの世界的リーダー。エッチング・CVD・PVDなどプラズマプロセス装置の電源ユニットで圧倒的なシェアを持つ。

RF電源
Ascent RF電源Navigator IIマッチングネットワーク
直流電源
Pinnacle DC電源Paramount DC電源
  • プラズマプロセス向けRF電源・マッチングネットワークで世界首位
  • エッチング・CVD・PVD装置のほぼ全てのアプリケーションをカバー
MKS Instruments米国

ガス流量制御・圧力制御・RFパワー・プラズマ源など、半導体製造プロセスを支えるサブシステム機器の主要メーカー。Newport光学部門も保有。

ガス制御機器
マスフローコントローラ圧力コントローラ
RF・プラズマ機器
RFジェネレータマッチングネットワーク
計測・光学
Newport光学部品レーザー光源
  • マスフローコントローラ(MFC)でグローバルリーダー
  • RF電力供給・圧力制御・真空計測の統合ソリューション
クリエイティブテクノロジー日本

静電チャック(ESC)とチャック用電源・制御装置の専業メーカー。半導体・FPD製造装置向けに、材質・電極構造・電源をセットで設計する吸着ソリューションを提供する。

静電チャック
静電チャック(ESC)ESC用電源・コントローラ
  • 静電チャック専業としての設計ノウハウ
  • チャック本体と専用電源を一体で供給
ダイヘン日本

電力機器・溶接機を源流とするメーカー。半導体分野ではウェハ搬送ロボットに加え、プラズマ装置向けの高周波電源と整合器(マッチングボックス)を供給する。

高周波電源
RFジェネレータ整合器(マッチングボックス)
搬送ロボット
ウェハ搬送ロボット真空搬送ロボット
  • 高周波電源と整合器を自社設計
  • 大気・真空対応のウェハ搬送ロボット

関連カテゴリ

消耗部品・部品洗浄/再生
装置制御ソフトウェア・受託開発
ガス供給・流量制御(MFC)
石英・セラミック部品
真空ポンプ
ウェハキャリア・FOUP・EFEM

関連用語

RF電源(高周波電源)とは →静電チャック(ESC)とは →フォーカスリング(エッジリング)とは →シャワーヘッドとは →チャンバーライナーとは →石英部品とは →イットリア溶射コーティングとは →セラミックヒーター(AlN)とは →サセプタとは →Oリング・シール材とは →インピーダンス整合器とは →リモートプラズマ源(RPS)とは →

比較・違いを学ぶ

石英部品とセラミック部品の違い(装置内部材の比較)
半導体製造装置のチャンバー内部材は、高温・プラズマ・腐食性ガスという過酷な環境で、金属汚染を起こさずに機能しなければなりません。この要求に応えるのが石英ガラスと
原子層エッチング(ALE)とプラズマエッチング(RIE)の違い
反応性イオンエッチング(RIE)は半導体前工程の主力エッチング技術で、プラズマで活性化したラジカル・イオンを使って連続的に薄膜を除去します。原子層エッチング(A
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