SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
RF電源・電源システムメーカー4社
RF電源・電源システムは、プラズマを用いるエッチング・CVD(PECVD)・PVD(スパッタ)装置に高周波/直流電力を供給するサブシステムです。RFジェネレータとインピーダンス整合を行うマッチングネットワークが対になり、プラズマの安定性・密度・イオンエネルギーを精密に制御します。プロセスの再現性とウェハ面内均一性は電源の出力安定度と応答速度に大きく依存し、微細化が進むほどパルス制御など高度な電源技術が求められます。
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主要特徴
プラズマプロセス(エッチング・PECVD・スパッタ)に電力を供給
RFジェネレータ+マッチングネットワークでプラズマを安定制御
出力安定度・応答速度がプロセス再現性と面内均一性を左右
微細化に伴いパルス変調など高度な電源制御が必要
よくある質問
メーカー
4社の主要メーカー