真空ポンプメーカー8社
真空ポンプは、成膜（CVD/PVD/ALD）・エッチング・イオン注入など、真空環境を必要とする製造装置のチャンバー内を排気する基幹サブシステムです。大気圧から中真空まではドライポンプ、高真空・超高真空にはターボ分子ポンプを組み合わせて使用します。半導体プロセスでは腐食性・堆積性ガスを扱うため、耐食性・耐パーティクル性とアップタイム（連続稼働）が重視され、装置のスループットと信頼性を直接支えます。
主要特徴
よくある質問
ドライポンプとターボ分子ポンプの違いは？▾
半導体向け真空ポンプの特徴は？▾
スペック比較
このページの機種は種類が異なります。まず種類で絞り込み、同じ種類の機種どうしを比較してください。
| 種類 | メーカー | 型番 | 主要用途 |
|---|---|---|---|
| ドライ真空ポンプ | Edwards Vacuum（Atlas Copco傘下） | iXH Mk2 | 多層エッチング・CVD（腐食性ガス） |
| 荏原製作所 | EV-M型 | エッチング・CVD・拡散 | |
| 樫山工業 | NeoDry G シリーズ | 半導体・電子部品などの真空排気 | |
| ターボ分子ポンプ | Pfeiffer Vacuum | HiPace® ターボ分子ポンプ | コーティング・半導体製造・分析装置 |
| Pfeiffer Vacuum | ATH シリーズ（ATH 500 M ～ ATH 3200 M） | 腐食性ガスを使う製造プロセス |
ドライ真空ポンプ：3機種の比較
| 項目 | Edwards Vacuum（Atlas Copco傘下）iXH Mk2 | 荏原製作所EV-M型 | 樫山工業NeoDry G シリーズ |
|---|---|---|---|
| 方式 | ルーツ式ドライポンプ | ドライ真空ポンプ（回転速度制御） | 空冷ドライ真空ポンプ |
| 特徴 | 入力電力 1.3 kW（前世代比 60% 減）・粉体処理機能 | 省エネ運転・最大排気量 110,000 L/min モデルあり | 静音性・水蒸気処理能力を NeoDry-E から向上 |
| シリーズ構成 | iXM／iXH／iXL | EV-M 型／EV-X 型 | NeoDry-E（7E ～ 300E）／NeoDry-G |
| 主要用途 | 多層エッチング・CVD（腐食性ガス） | エッチング・CVD・拡散 | 半導体・電子部品などの真空排気 |
ターボ分子ポンプ：2機種の比較
| 項目 | Pfeiffer VacuumHiPace® ターボ分子ポンプ | Pfeiffer VacuumATH シリーズ（ATH 500 M ～ ATH 3200 M） |
|---|---|---|
| 方式 | ターボ分子ポンプ（ハイブリッド／磁気軸受） | ターボ分子ポンプ（5 軸磁気浮上） |
| 特徴 | 低騒音・低振動・SEMI S2 対応 | 高ガス処理量・保護軸受の高速復帰 |
| 主要用途 | コーティング・半導体製造・分析装置 | 腐食性ガスを使う製造プロセス |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
代表製品・スペック
| 方式 | ルーツ式ドライポンプ |
| 特徴 | 入力電力 1.3 kW（前世代比 60% 減）・粉体処理機能 |
| シリーズ構成 | iXM／iXH／iXL |
| 主要用途 | 多層エッチング・CVD（腐食性ガス） |
| 方式 | ドライ真空ポンプ（回転速度制御） |
| 特徴 | 省エネ運転・最大排気量 110,000 L/min モデルあり |
| シリーズ構成 | EV-M 型／EV-X 型 |
| 主要用途 | エッチング・CVD・拡散 |
| 方式 | 空冷ドライ真空ポンプ |
| 特徴 | 静音性・水蒸気処理能力を NeoDry-E から向上 |
| シリーズ構成 | NeoDry-E（7E ～ 300E）／NeoDry-G |
| 主要用途 | 半導体・電子部品などの真空排気 |
| 方式 | ターボ分子ポンプ（ハイブリッド／磁気軸受） |
| 特徴 | 低騒音・低振動・SEMI S2 対応 |
| 主要用途 | コーティング・半導体製造・分析装置 |
| 方式 | ターボ分子ポンプ（5 軸磁気浮上） |
| 特徴 | 高ガス処理量・保護軸受の高速復帰 |
| 主要用途 | 腐食性ガスを使う製造プロセス |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
8社の主要メーカー
半導体ファブ向け真空ポンプ・排気処理（アベートメント）システムの世界大手。ドライポンプ・ブースターポンプ・PFASフリー排ガス処理まで一貫提供し、ファブのインフラを支える。
- •ドライ真空ポンプで世界最大手
- •排気処理（アベートメント）システムに強み
半導体製造装置向け真空ポンプ・計測機器の世界的リーダー。ターボ分子ポンプ・スクロールポンプ・ドライポンプなど幅広い製品ラインでALD・CVD・PVD・エッチング装置の真空環境を支える。
- •ターボ分子ポンプで世界最大手クラス
- •クリーンドライポンプによる汚染防止
CMP（化学機械研磨）装置と半導体製造用真空ポンプ・除害装置の大手。ポンプ・精密機械・環境事業を軸に、半導体製造インフラを幅広く支える。
- •CMPシステムで世界シェア上位。前工程の平坦化プロセスに不可欠
- •ドライ真空ポンプ・スクラバーでクリーンルームの排気・除害を担う
真空技術を核に、スパッタ・CVD・蒸着・エッチング・測定装置を手がける日本の総合真空機器メーカー。半導体に加えFPD・太陽電池にも展開。
- •真空ポンプからプロセス装置まで一貫した垂直統合
- •スパッタリング装置で国内トップクラス
ドライ真空ポンプの専業メーカー。半導体・FPD製造装置向けに、堆積性・腐食性ガスに対応した多段ルーツ式ドライポンプと排ガス処理連携システムを供給する。
- •ドライ真空ポンプの専業メーカー
- •堆積性・腐食性プロセスガスへの対応
真空バルブの世界最大手。半導体製造装置のロードロックとプロセスチャンバーを仕切るゲートバルブ／スリットバルブ、圧力制御バルブで圧倒的なシェアを持つスイス企業。
- •真空ゲートバルブで世界トップシェア
- •高速・高寿命なバルブ駆動機構
精密温調機（チラー）と圧縮空気浄化機器、真空ポンプ・ブロワを手掛ける機械メーカー。半導体製造装置向けには高い温度安定性を持つ精密チラーを供給する。
- •精密空調・チラーで国内有数の実績
- •真空ポンプとブロワも自社で持つ
170年以上の歴史を持つ真空技術メーカー。ドライポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオポンプ、真空計、リークディテクタまで真空系を一通り揃える。Atlas Copcoグループ。
- •ドライ・ターボ・クライオの全方式を持つ
- •真空計とリークディテクタまで自社製
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メーカー 9 社