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真空ポンプメーカー6

真空ポンプは、成膜(CVD/PVD/ALD)・エッチング・イオン注入など、真空環境を必要とする製造装置のチャンバー内を排気する基幹サブシステムです。大気圧から中真空まではドライポンプ、高真空・超高真空にはターボ分子ポンプを組み合わせて使用します。半導体プロセスでは腐食性・堆積性ガスを扱うため、耐食性・耐パーティクル性とアップタイム(連続稼働)が重視され、装置のスループットと信頼性を直接支えます。

メーカー 6関連カテゴリ 6

主要特徴

成膜・エッチング・イオン注入など真空プロセス装置に必須
ドライポンプ(粗引き)+ターボ分子ポンプ(高真空)の組合せ
腐食性・堆積性ガスへの耐食性・耐パーティクル性が重要
アップタイム(連続稼働)が装置スループットを左右

よくある質問

ドライポンプとターボ分子ポンプの違いは?
ドライポンプは大気圧から中真空までの粗引きを担い、ターボ分子ポンプは高真空・超高真空を得るために使われます。通常は両者を組み合わせて運用します。
半導体向け真空ポンプの特徴は?
腐食性・堆積性のプロセスガスに耐える設計と、長時間連続稼働できる信頼性が求められます。排ガス処理(アベートメント)と一体運用されることも多いです。

メーカー

6社の主要メーカー

Edwards Vacuum(Atlas Copco傘下)GB

半導体ファブ向け真空ポンプ・排気処理(アベートメント)システムの世界大手。ドライポンプ・ブースターポンプ・PFASフリー排ガス処理まで一貫提供し、ファブのインフラを支える。

ドライ真空ポンプ
iXH/iXL seriesGXS series
排気処理装置
SIRIUSスクラバーFLARESシリーズ
ブースターポンプ
EH/EPX series
  • ドライ真空ポンプで世界最大手
  • 排気処理(アベートメント)システムに強み
Pfeiffer Vacuumドイツ

半導体製造装置向け真空ポンプ・計測機器の世界的リーダー。ターボ分子ポンプ・スクロールポンプ・ドライポンプなど幅広い製品ラインでALD・CVD・PVD・エッチング装置の真空環境を支える。

ターボ分子ポンプ
HiPace series
ドライ真空ポンプ
ACP seriesMVP series
真空計・リークディテクター
PKR/PPR series
  • ターボ分子ポンプで世界最大手クラス
  • クリーンドライポンプによる汚染防止
荏原製作所日本

CMP(化学機械研磨)装置と半導体製造用真空ポンプ・除害装置の大手。ポンプ・精密機械・環境事業を軸に、半導体製造インフラを幅広く支える。

CMP装置
FREX(300mm CMP)F-REX(先端CMP)
真空ポンプ
EV-Aシリーズ(ドライ真空)除害装置
  • CMPシステムで世界シェア上位。前工程の平坦化プロセスに不可欠
  • ドライ真空ポンプ・スクラバーでクリーンルームの排気・除害を担う
ULVAC(アルバック)日本

真空技術を核に、スパッタ・CVD・蒸着・エッチング・測定装置を手がける日本の総合真空機器メーカー。半導体に加えFPD・太陽電池にも展開。

PVD装置
スパッタリングシステム蒸着装置
CVD装置
プラズマCVD熱CVD
真空ポンプ
ターボ分子ポンプドライポンプ
  • 真空ポンプからプロセス装置まで一貫した垂直統合
  • スパッタリング装置で国内トップクラス
樫山工業日本

ドライ真空ポンプの専業メーカー。半導体・FPD製造装置向けに、堆積性・腐食性ガスに対応した多段ルーツ式ドライポンプと排ガス処理連携システムを供給する。

真空ポンプ
ドライ真空ポンプルーツブロワ
  • ドライ真空ポンプの専業メーカー
  • 堆積性・腐食性プロセスガスへの対応
VAT GroupCH

真空バルブの世界最大手。半導体製造装置のロードロックとプロセスチャンバーを仕切るゲートバルブ/スリットバルブ、圧力制御バルブで圧倒的なシェアを持つスイス企業。

真空バルブ
ゲートバルブスリットバルブ圧力制御バルブ
  • 真空ゲートバルブで世界トップシェア
  • 高速・高寿命なバルブ駆動機構

関連カテゴリ

消耗部品・部品洗浄/再生
装置制御ソフトウェア・受託開発
ガス供給・流量制御(MFC)
RF電源・電源システム
石英・セラミック部品
ウェハキャリア・FOUP・EFEM

関連用語

ドライ真空ポンプとは →ターボ分子ポンプ(TMP)とは →クライオポンプとは →真空計とは →ゲートバルブ/スリットバルブとは →ロードロック室とは →マスフローコントローラ(MFC)とは →ガスボックス(ガスパネル)とは →ダイヤフラムバルブとは →ガス精製器・ガスフィルタとは →薬液供給システム(CDS)とは →除害装置(スクラバー)とは →

比較・違いを学ぶ

ドライ真空ポンプとターボ分子ポンプの違い
半導体製造装置の排気系は、大気圧から超高真空まで10桁以上の圧力範囲をカバーしなければなりません。単一のポンプでこれを賄うことはできないため、粗引きを担うドライ
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