KT1000 シリーズとは
KT1000 シリーズは、カンケンテクノが 1993年に開発した排ガス除害装置です。排ガスを燃やさずに電気で加熱して処理するため、CO₂ の排出を抑えられます。
半導体や液晶の工場で使われ、アジアで約 5,000 台の実績があります。
主な特長
- •電気加熱式（非燃焼）
- •CO₂ 排出を抑制
- •アジアで約 5,000 台
主な仕様
| 処理方式 | 電気加熱式（非燃焼） |
|---|---|
| シリーズ構成 | KT1000 シリーズ |
| 主要用途 | 半導体・液晶工場の排ガス処理（アジアで約 5,000 台） |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Edwards Vacuum（Atlas Copco傘下）Atlas™ シリーズ | 荏原製作所TND-Single 型（TND-Single Plus 型含む） | カンケンテクノKT1000 シリーズ | Applied MaterialsAeris®-G Plasma Abatement System | Applied MaterialsAeris®-S | Applied MaterialsAeris®-Si |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 処理方式 | 燃焼式＋湿式スクラブ | 燃焼式＋水処理式（Plus は水処理＋燃焼＋水処理） | 電気加熱式（非燃焼） | ポンプ前段のプラズマ除害（オンデマンド運転） | ポンプ前段のプラズマ処理（磁場閉じ込め・容量結合） | NF₃ プラズマで SiO₂ 粉を SiF₄ に変換 |
| 主要用途 | CVD・エッチング・エピ・MOCVD の排ガス処理 | 半導体製造工程の有害ガスの無害化 | 半導体・液晶工場の排ガス処理（アジアで約 5,000 台） | — | 成膜工程の排気ライン・ポンプ保護 | 高流量 TEOS 成膜の排気ライン |
| シリーズ構成 | Atlas TCS（CVD）／TPU（PFC）／Kronis（low-k）／Etch／Helios（水素） | TND 型／GCR 型（触媒式・PFC）／GT 型（乾式）／G6-E 型（大流量水素・塩素） | KT1000 シリーズ | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目（5件）
| 処理能力 | 入口 1 ～ 6・最大 1,200 slm | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 除害効率 | — | — | — | CF₄ で 95% 超、SF₆・NF₃・C₄F₈ などで 99% 超 | — | — |
| 実績 | — | — | — | 4,000 台以上・稼働率 99.9% 超 | — | — |
| 特徴 | — | — | — | — | 独自トラップで固形物を捕集・クリーニング時に除去 | — |
| 効果 | — | — | — | — | — | 高流量 TEOS でポンプ寿命を 1 か月から 10 か月超へ |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •半導体・液晶工場の排ガス処理
掲載カテゴリ
KT1000 シリーズは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
カンケンテクノ
半導体・FPD製造の排ガス処理装置メーカー。シラン・フッ素系ガス・PFCなどのプロセス排ガスを燃焼・プラズマ・湿式で無害化する除害装置（スクラバー）を供給する。
排ガス処理装置（アバトメント）のほかの製品
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07