TND-Single 型とは
TND-Single 型は、荏原製作所の排ガス処理（除害）装置です。燃焼式と水処理式を組み合わせて、半導体の製造工程から出る有害なガスを無害にします。2019年に発売されました。
TND-Single Plus 型は、水処理・燃焼・水処理の 3 段で処理します。荏原は触媒式で PFC を分解する GCR 型、乾式の GT 型、大流量の水素や塩素に対応する G6-E 型もそろえています。
主な特長
- •燃焼式＋水処理式
- •Plus 型は水処理＋燃焼＋水処理
- •2019年発売
主な仕様
| 処理方式 | 燃焼式＋水処理式（Plus は水処理＋燃焼＋水処理） |
|---|---|
| シリーズ構成 | TND 型／GCR 型（触媒式・PFC）／GT 型（乾式）／G6-E 型（大流量水素・塩素） |
| 主要用途 | 半導体製造工程の有害ガスの無害化 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Edwards Vacuum（Atlas Copco傘下）Atlas™ シリーズ | 荏原製作所TND-Single 型（TND-Single Plus 型含む） | カンケンテクノKT1000 シリーズ | Applied MaterialsAeris®-G Plasma Abatement System | Applied MaterialsAeris®-S | Applied MaterialsAeris®-Si |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 処理方式 | 燃焼式＋湿式スクラブ | 燃焼式＋水処理式（Plus は水処理＋燃焼＋水処理） | 電気加熱式（非燃焼） | ポンプ前段のプラズマ除害（オンデマンド運転） | ポンプ前段のプラズマ処理（磁場閉じ込め・容量結合） | NF₃ プラズマで SiO₂ 粉を SiF₄ に変換 |
| 主要用途 | CVD・エッチング・エピ・MOCVD の排ガス処理 | 半導体製造工程の有害ガスの無害化 | 半導体・液晶工場の排ガス処理（アジアで約 5,000 台） | — | 成膜工程の排気ライン・ポンプ保護 | 高流量 TEOS 成膜の排気ライン |
| シリーズ構成 | Atlas TCS（CVD）／TPU（PFC）／Kronis（low-k）／Etch／Helios（水素） | TND 型／GCR 型（触媒式・PFC）／GT 型（乾式）／G6-E 型（大流量水素・塩素） | KT1000 シリーズ | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目（5件）
| 処理能力 | 入口 1 ～ 6・最大 1,200 slm | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 除害効率 | — | — | — | CF₄ で 95% 超、SF₆・NF₃・C₄F₈ などで 99% 超 | — | — |
| 実績 | — | — | — | 4,000 台以上・稼働率 99.9% 超 | — | — |
| 特徴 | — | — | — | — | 独自トラップで固形物を捕集・クリーニング時に除去 | — |
| 効果 | — | — | — | — | — | 高流量 TEOS でポンプ寿命を 1 か月から 10 か月超へ |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •半導体製造工程の有害ガスの無害化
掲載カテゴリ
TND-Single 型は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
荏原製作所
CMP（化学機械研磨）装置と半導体製造用真空ポンプ・除害装置の大手。ポンプ・精密機械・環境事業を軸に、半導体製造インフラを幅広く支える。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07