孔徑光闌（Aperture）是指置於光、電子束或離子束的路徑上，限制通過範圍或角度的開口（孔），或指具有該孔的零件。中文稱為「光闌」或「孔徑」，與相機鏡頭的光圈作用相同。在半導體製造設備中，曝光機、電子顯微鏡（SEM）、電子束直寫設備、離子佈植機等許多處理束流的設備都裝有孔徑光闌。
在使用電子束的設備中，孔徑光闌是決定束流性能的重要零件。SEM的物鏡光闌以直徑約數十μm的孔限制電子束的發散角，抑制透鏡像差造成的影像模糊，以調整解析度與焦深。在電子束直寫設備中，讓電子束通過具有方形或文字形孔洞的孔徑光闌來整形，一次描繪多個圖形以提高描繪速度。孔徑光闌持續受電子束照射，會產生汙染與充電，成為束流位置偏移或影像劣化的原因，因此也被視為需定期更換・清潔的耗材。
在曝光機中，以照明系統的孔徑光闌改變光源形狀（照明形狀）。藉由切換為環形照明、雙極照明、四極照明等，依圖案提高解析度與焦深。此外，投影透鏡的數值孔徑（NA）由透鏡的光闌決定。在離子佈植機中，通過質量分析磁鐵的束流中只讓目標離子通過的解析狹縫（孔徑光闌），可防止不需要的離子混入。在影像感測器中，像素中受光部分所占的比例稱為開口率（孔徑比）。