HMI eP5 是艾司摩爾解析度最高的電子束設備。為了晶片開發與生產監控,以高產能進行 CD(尺寸)量測與缺陷偵測。
晶圓廠與研發皆可使用,用於生產中的製程性能監控,以及開發中的光學鄰近效應修正(OPC)模型驗證。
1 台結合精密的 CD 量測與高解析度缺陷偵測。在晶圓檢測中,可在物理缺陷模式與電位對比模式下運作,找出圖案化與電性缺陷。像素尺寸為 1nm。
艾司摩爾解析度最高的電子束設備。1 台即可高產能地進行 CD 量測與缺陷偵測。
HMI eP5 是艾司摩爾解析度最高的電子束設備。為了晶片開發與生產監控,以高產能進行 CD(尺寸)量測與缺陷偵測。
晶圓廠與研發皆可使用,用於生產中的製程性能監控,以及開發中的光學鄰近效應修正(OPC)模型驗證。
1 台結合精密的 CD 量測與高解析度缺陷偵測。在晶圓檢測中,可在物理缺陷模式與電位對比模式下運作,找出圖案化與電性缺陷。像素尺寸為 1nm。
| 方式 | 電子束 CD 量測+缺陷偵測 |
|---|---|
| 像素尺寸 | 1 nm |
| 檢測模式 | 物理缺陷・電位對比 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。