最後更新:2026年10月23日電子束(EB)檢測設備

eSL10的特點與規格

科磊(KLA)・電子束(EB)檢測設備

可找出光學式或其他電子束檢測無法捕捉之缺陷的圖案化晶圓電子束缺陷檢測設備。整合深度學習演算法。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

eSL10 是科磊(KLA)的電子束(e-beam)式圖案化晶圓缺陷檢測設備。以業界最高的著陸能量與高解析度,捕捉微小的物理缺陷與高深寬比結構的缺陷,支援先進邏輯、DRAM、3D NAND 的開發與量產監控。

透過新的電子光學設計,以小光點尺寸取得高電子束電流密度,在業界最廣的操作條件下,捕捉各種製程層與元件結構的缺陷。

Yellowstone 掃描模式可在不降低解析度的情況下高速運作,有效率地調查可疑熱點,並在大範圍晶片區域中搜尋缺陷。以業界唯一的 Simul-6 技術,一次取得表面、形貌、材料對比等資訊。

主要規格

電子束配置單電子束(Simul-6 收集模式・Yellowstone 掃描)
特點以 SMARTs 深度學習區分缺陷與雜訊
主要用途先進邏輯・DRAM・3D NAND(含 EUV 製程)

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

業界最高的著陸能量與高解析度
小光點・高電子束電流密度的電子光學系統
以 Yellowstone 掃描模式高速檢測
以 Simul-6 同時取得多種資訊

主要用途

  • 先進邏輯・DRAM・3D NAND 的缺陷檢測
  • 高深寬比結構・熱點的調查

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹縣竹北市):台元科技園區,2025 年啟用新辦公室與訓練中心
  • 各地據點(新竹・桃園・林口・台中・台南・高雄):就近支援各科學園區的客戶

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資料來源

  1. 科磊(KLA)官方產品頁面:KLA Defect Inspection and Review