TWINSCAN EXE:5000 是艾司摩爾首款 0.55 NA（High-NA）EUV 曝光機。為雙載台設備，是針對先進邏輯與記憶體生產提供 8nm 解析度之新世代的第一款機種。
以 8nm 解析度，可用 1 次曝光描繪比 TWINSCAN NXE 小 1.7 倍的圖案，電晶體密度因此達 2.9 倍。
由於能描繪更小的圖案，量產時可用 1 次圖案化取代多重圖案化，簡化製程、縮短製造週期時間，並增加晶圓產量。
TWINSCAN EXE:5000的特點與規格
艾司摩爾（ASML）・EUV 曝光機
首款 0.55 NA（High-NA）EUV 曝光機。解析度 8nm，以 1 次曝光描繪比 NXE 小 1.7 倍的圖案。
產品概要
主要規格
| 光源 | EUV（13.5nm） |
|---|---|
| 投影光學系統 | NA 0.55（High-NA） |
| 解析度 | 8 nm |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
首款 High-NA（0.55 NA）EUV
解析度 8nm
比 NXE 小 1.7 倍的圖案・2.9 倍密度
主要用途
- 先進邏輯・記憶體的微細圖案
- 減少多重圖案化
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣總部（新竹）：2003 年成立
- 林口據點・新廠區（新北市林口區）：客戶支援與工廠；林口工一產業園區新廠是在台最大投資
- 台中・台南據點（台中・台南）：客戶支援據點，台南另設工廠