最後更新:2026年10月23日電子束直寫設備

JBX-8100FS的特點與規格

日本電子(JEOL)・電子束直寫設備

日本電子(JEOL)的點束型電子束直寫設備,較舊機型降低佔地面積與耗電,同時提高產能。具備高解析度與高產能 2 種模式。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

JBX-8100FS 是日本電子(JEOL)的點束型電子束直寫設備。以電子束直接描繪圖形,因此不使用光罩即可製作奈米級微細結構。描繪方式為點束、向量掃描(vector scan)與步進重複(step & repeat)。

加速電壓在 G1・G2 機型為 100kV,G3 機型可從 200kV/130kV/100kV/50kV 中選擇。支援最大掃描速度 125MHz 的高速描繪,以及高解析度模式・高速模式的切換,疊對精度 G1/G2 為 ±9nm 以下,G3 為 ±8nm 以下。

可處理最大 200mm 晶圓、6 吋光罩與任意小片試料。寬 4.9m×深 3.7m×高 2.6m 的精巧設計,耗電量壓低至約 3kVA。用於奈米結構製作、化合物半導體元件製造,以及厚膜光阻的 3D 加工。

主要規格

電子束方式點束(spot beam)
加速電壓最大 100 kV(G3 為 200 kV)
描繪範圍150 × 150 mm・最大掃描速度 125 MHz
主要用途從超微細加工到中小規模生產

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

點束・向量掃描・步進重複
加速電壓 100kV(G3 可選 200/130/100/50kV)
最大掃描速度 125MHz,疊對 ±8~9nm 以下
精巧設計・耗電約 3kVA

主要用途

  • 奈米結構製作(研發)
  • 化合物半導體元件製造
  • 厚膜光阻的 3D 加工

製造商

日本電子(JEOL)(總部:日本)

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資料來源

  1. 日本電子(JEOL)官方產品頁面:JBX-8100FS