JBX-8100FS
従来機より設置面積と消費電力を抑えつつスループットを高めた JEOL のスポットビーム型電子ビーム描画装置。高解像度と高スループットの2モードを持つ。
JBX-8100FSとは
JBX-8100FS は、日本電子（JEOL）のスポットビーム型電子ビーム描画装置です。電子ビームで直接パターンを描くため、マスクを使わずにナノメートル級の微細構造を作れます。描画方式はスポットビーム、ベクタースキャン、ステップ＆リピートです。
加速電圧は G1・G2 モデルで 100kV、G3 モデルでは 200kV／130kV／100kV／50kV から選べます。最大走査速度 125MHz の高速描画と、高分解能モード・高速モードの切り替えに対応し、重ね合わせ精度は G1／G2 で ±9nm 以下、G3 で ±8nm 以下です。
最大 200mm ウェーハと 6 インチマスク、任意の小片試料を扱えます。幅 4.9m×奥行 3.7m×高さ 2.6m のコンパクトな設計で、消費電力は約 3kVA と低く抑えられています。ナノ構造の作製や化合物半導体デバイスの製造、厚膜レジストの 3D 加工に使われます。
主な特長
- •スポットビーム・ベクタースキャン・ステップ＆リピート
- •加速電圧 100kV（G3 は 200／130／100／50kV 選択）
- •最大走査速度 125MHz、重ね合わせ ±8〜9nm 以下
- •コンパクト設計・消費電力約 3kVA
主な仕様
| ビーム方式 | スポットビーム |
|---|---|
| 加速電圧 | 最大 100 kV（G3 は 200 kV） |
| 描画範囲 | 150 × 150 mm・最大走査速度 125 MHz |
| 主要用途 | 超微細加工から中小規模生産まで |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 日本電子（JEOL）JBX-8100FS | エリオニクスELS-BODEN シリーズ |
|---|---|---|
| ビーム方式 | スポットビーム | スポットビーム（モジュール構成） |
| 加速電圧 | 最大 100 kV（G3 は 200 kV） | 50 ～ 150 kV |
| 描画範囲 | 150 × 150 mm・最大走査速度 125 MHz | 構成により選択 |
| 主要用途 | 超微細加工から中小規模生産まで | 高精細描画から大電流高速描画まで |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ナノ構造の作製（研究開発）
- •化合物半導体デバイスの製造
- •厚膜レジストの 3D 加工
掲載カテゴリ
JBX-8100FSは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
日本電子（JEOL）
電子顕微鏡・電子線描画装置・分析機器の総合メーカー。半導体分野ではマスク描画用EB装置・電子線露光装置、研究用TEM/SEMを提供。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06