電子束直寫設備是什麼
電子束直寫設備是不使用光罩，以電子束直接在晶圓上描繪圖案的曝光設備。由於電子束波長極短，不受光的繞射極限限制，可得到數 nm 等級的解析度。以 1 道電子束逐次描繪，產能低，不適合量產，但由於不需製作光罩，在試產、研發、少量多樣與 ASIC 短交期需求上能發揮價值。目前正以多電子束化改善產能，技術上與光罩寫入機一脈相承。
重點整理
不使用光罩，以電子束直接在晶圓上描繪圖案
不受繞射極限限制，可得到數 nm 等級的解析度
逐次描繪導致產能低，適合試產・少量生產
正以多電子束化改善產能
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曝光機的其他分類
烘烤・UV 固化設備
烘烤・UV 固化設備是以加熱或紫外線照射使塗佈膜硬化、穩定化的設備。
塗佈顯影機塗佈顯影機（Coater/Developer）是在微影製程中進行光阻塗佈（coating）與曝光後顯影（develop）的一體化設備。
DUV 曝光機DUV 曝光機（Deep Ultraviolet Lithography）是以 ArF 準分子雷射（193nm）或 KrF 準分子雷射（248nm）為光源的曝光設備。
EUV 曝光機EUV 曝光機（Extreme Ultraviolet Lithography）是使用波長 13.5nm 的極紫外光，將超微細電路圖案轉印到晶圓上的曝光設備。
i-line 步進機i-line 步進機（i-line Stepper）是以汞燈 i-line（波長 365nm）為光源的曝光設備，目前仍廣泛用於 0.18μm 以上成熟節點的半導體製造。
雷射直寫設備（LDI）雷射直寫設備（LDI／無光罩曝光設備）是不透過光罩，以雷射光掃描描繪圖案的曝光設備。
光罩對準曝光機光罩對準曝光機（Mask Aligner）是讓光罩與晶圓直接相對，以等倍一次轉印圖案的曝光設備。
奈米壓印微影（NIL）奈米壓印微影（NIL：Nanoimprint Lithography）是將光罩（模板）上的奈米結構圖案直接壓在紫外線硬化樹脂等材料上以轉印圖案的微影技術。