EtchTemp 系列是科磊(KLA)的原位(in situ)晶圓溫度量測系統。將內建感測器的無線晶圓送入製造設備,在實際製程條件下掌握電漿蝕刻環境對產品晶圓的影響。有 300mm 與 200mm 的配置。
EtchTemp-HD 的感測器密度高,可監控晶圓全面的溫度。此溫度分布與導體蝕刻的 CD 均勻性高度相關。
由於能評估接近產品晶圓的熱條件,用於蝕刻條件調整,以及前段製程電漿蝕刻腔體的認證、匹配與保養後確認。
以實際製程條件量測電漿蝕刻中晶圓溫度的無線量測晶圓(20~140℃)。
EtchTemp 系列是科磊(KLA)的原位(in situ)晶圓溫度量測系統。將內建感測器的無線晶圓送入製造設備,在實際製程條件下掌握電漿蝕刻環境對產品晶圓的影響。有 300mm 與 200mm 的配置。
EtchTemp-HD 的感測器密度高,可監控晶圓全面的溫度。此溫度分布與導體蝕刻的 CD 均勻性高度相關。
由於能評估接近產品晶圓的熱條件,用於蝕刻條件調整,以及前段製程電漿蝕刻腔體的認證、匹配與保養後確認。
| 量測範圍 | 20~140℃ |
|---|---|
| 適用晶圓尺寸 | 300/200 mm |
| 主要用途 | 介電質・導體電漿蝕刻的溫度評估 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。