最後更新:2026年10月23日光學式晶圓檢測設備

29xx 系列的特點與規格

科磊(KLA)・光學式晶圓檢測設備

寬頻電漿照明的圖案化晶圓缺陷檢測設備。2965 對應 GAA 奈米片缺陷,2950 EP 對應 3D NAND・DRAM。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

29xx 系列的 2965 與 2950 EP 是科磊(KLA)使用寬頻電漿照明的圖案化晶圓缺陷檢測設備,可找出邏輯與記憶體中影響良率的缺陷。

以 Super・Pixel 模式等強化的寬頻電漿照明與先進檢測演算法,具備在各種製程層、材料與堆疊中捕捉關鍵缺陷的靈敏度。2965 具備可捕捉奈米片關鍵缺陷的波段,支援 GAA 電晶體的量產爬坡與生產。2950 EP 透過硬體、演算法與缺陷分類的改良,支援 3D NAND 與 DRAM 的缺陷發現與監控。

作為線上監控的業界標準,結合靈敏度與光學檢測的速度,以低持有成本快速完成從缺陷發現到特性分析的流程。

主要規格

方式寬頻電漿照明的光學式缺陷檢測
產品陣容2965・2950 EP
特點Super・Pixel 模式・先進檢測演算法

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

寬頻電漿照明
2965 支援 GAA 奈米片
2950 EP 面向 3D NAND・DRAM
線上監控的業界標準

主要用途

  • 缺陷・熱點的發現
  • 產線監控・製程窗口的發現

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹縣竹北市):台元科技園區,2025 年啟用新辦公室與訓練中心
  • 各地據點(新竹・桃園・林口・台中・台南・高雄):就近支援各科學園區的客戶

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資料來源

  1. 科磊(KLA)官方產品頁面:KLA