HighTemp 系列是科磊的原位(in situ)晶圓溫度量測系統。設計用於前段・後段製程的 ALD、CVD、PVD 等先進成膜製程,以及其他高溫製程的最佳化與監控。有 300mm 與 200mm 的配置。
以無線晶圓量測製造設備的熱均勻性,在實際生產條件下即時收集時間與空間兩方面的溫度資料。
找出在電漿環境等條件下影響製程窗口與圖形化性能的熱差異,支援新材料、新電晶體技術與複雜圖形化的整合。
以實際製程條件量測 ALD・CVD・PVD 等高溫製程晶圓溫度的無線量測晶圓(20~500℃)。
HighTemp 系列是科磊的原位(in situ)晶圓溫度量測系統。設計用於前段・後段製程的 ALD、CVD、PVD 等先進成膜製程,以及其他高溫製程的最佳化與監控。有 300mm 與 200mm 的配置。
以無線晶圓量測製造設備的熱均勻性,在實際生產條件下即時收集時間與空間兩方面的溫度資料。
找出在電漿環境等條件下影響製程窗口與圖形化性能的熱差異,支援新材料、新電晶體技術與複雜圖形化的整合。
| 量測範圍 | 20~500℃ |
|---|---|
| 適用晶圓尺寸 | 300/200 mm |
| 主要用途 | ALD・CVD・PVD 等高溫製程 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。