最後更新:2026年10月23日疊對量測設備

Archer 750的特點與規格

科磊(KLA)・疊對量測設備

具備波長可調光源的科磊(KLA)影像式疊對量測設備。量測 7nm 以下邏輯與先進記憶體的疊對誤差。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Archer 750 是科磊(KLA)的影像式疊對(Overlay)量測設備。透過拍攝專用的標靶圖形,量測下層與上層的圖形是否正確疊合。具備波長可調光源,在 7nm 以下的邏輯與先進記憶體節點中,進行準確、對製程變異強健且高生產力的量測。

疊對誤差的量測結果會回饋給曝光機,用於下一片晶圓的曝光補正。隨著多重圖形化與 EUV 的導入,可容許的疊對誤差已縮小到數 nm,量測的精度與取樣數兩者都受到要求。

KLA 的 Archer 系列中,有後繼的 Archer 800(依層別最佳化波長,並以 rAIM 標靶提高與實際元件的相關性)、針對 10nm 以下的 Archer 600 等,也備有散射量測方式的 ATL100,以及針對功率・特殊元件的 Archer Power。

主要規格

量測方式影像式(imaging-based)疊對量測
對象世代7nm 以下邏輯・先進記憶體
特點波長可調光源
相關機種Archer 800(後繼)・ATL100(散射量測方式)

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

影像式疊對量測
波長可調光源
支援 7nm 以下邏輯・先進記憶體

主要用途

  • 產品上的疊對控制・線上監控
  • 曝光機(掃描機)的認證

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹縣竹北市):台元科技園區,2025 年啟用新辦公室與訓練中心
  • 各地據點(新竹・桃園・林口・台中・台南・高雄):就近支援各科學園區的客戶

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資料來源

  1. 科磊(KLA)官方產品頁面:KLA Metrology