SpectraFilm F10的特點與規格

SpectraFilm F10 是科磊的關鍵薄膜（Critical Film）量測系統。以高亮度光源與擴大波長範圍的寬頻光譜橢圓偏光技術，即使在複雜的製程流程中，也能快速且確實地量測先進邏輯與記憶體重要層的薄膜。

F10 以 2nm 以下的 GAA（環繞式閘極）電晶體結構與最新 DRAM 節點為對象。以次埃級精度管理超晶格的 HKMG（High-k／金屬閘極）層，將臨界電壓（Vt）分布維持在窄範圍，以支援性能的調校。

姊妹機種 SpectraFilm F20 可精確管理具有數百對膜層的 3D NAND 結構中的薄層與厚層。針對一般薄膜，則有以 BBSE 技術量測膜厚・折射率・應力・組成的 Aleris 9350。