SpectraFilm F10とは
SpectraFilm F10 は、KLA の重要膜（クリティカルフィルム）計測システムです。高輝度の光源と、波長域を広げた広帯域分光エリプソメトリー技術により、先端ロジックとメモリの重要な層の薄膜を、複雑なプロセスフローでも速く確実に測定します。
F10 は 2nm 以下の GAA（ゲート・オール・アラウンド）トランジスタ構造と最新の DRAM ノードを対象としています。サブオングストロームの精度で超格子の HKMG（High-k／メタルゲート）層を管理し、しきい値電圧（Vt）の分布を狭く保つことで性能の作り込みを支えます。
姉妹機の SpectraFilm F20 は、数百ペアの層を持つ 3D NAND 構造の薄い層と厚い層の両方を正確に管理します。一般膜向けには、BBSE 技術で膜厚・屈折率・応力・組成を測る Aleris 9350 があります。
主な特長
- •高輝度光源と波長域を広げた分光エリプソメトリー
- •サブオングストロームの精度
- •2nm 以下 GAA・最新 DRAM の重要膜に対応
主な仕様
| 測定方式 | 広帯域分光エリプソメトリー（BBSE） |
|---|---|
| 対象 | 2nm 以下 GAA・最新 DRAM の重要膜 |
| 特徴 | サブオングストロームの精度 |
| 関連機種 | SpectraFilm F20（3D NAND）・Aleris 9350（一般膜） |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLASpectraFilm™ F10 | Onto InnovationIris™ G2 |
|---|---|---|
| 測定方式 | 広帯域分光エリプソメトリー（BBSE） | DUV 分光エリプソメトリー＋独自レーザーエリプソメトリー |
| 対象 | 2nm 以下 GAA・最新 DRAM の重要膜 | 共通膜・重要膜（10〜50Å の極薄多層膜） |
| 特徴 | サブオングストロームの精度 | 2D/3D OCD・反り・膜応力も計測 |
1機種だけが掲載している項目（2件）
| 関連機種 | SpectraFilm F20（3D NAND）・Aleris 9350（一般膜） | — |
|---|---|---|
| 主要用途 | — | 先端・成熟・特殊デバイスのゲート膜管理 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •GAA の超格子・HKMG 層の膜厚管理
- •最新 DRAM の重要膜計測
掲載カテゴリ
SpectraFilm F10は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
膜厚計測装置のほかの製品
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06