IMPULSE+的特點與規格

IMPULSE+ 是 Onto Innovation 用於 CMP 製程的膜層量測設備，有整合式與獨立式，以高靈敏度與高精度量測膜層。

作為整合式量測的標準，能以高靈敏度與高精度反應 CMP 製程的異常，透過高精度回饋建立 APC（先進製程控制）。

具備基於與獨立式 Atlas 平台共通光學設計的優異 DUV 光學系統，與 Atlas 連動進行跨製程模組的最佳化及全晶圓廠的製程管理。透過來自 Atlas 的光譜前饋與 AI 分析，進一步提高 S/N 比。