Aspect 是 Onto Innovation 的線上、非破壞式紅外光學 CD(IRCD)設備。可量測高深寬比結構 Z 方向(深度方向)的輪廓,實現關鍵製程的管理。特點是速度快、製程涵蓋範圍廣。
在密度與功耗持續微縮之際,以 3D NAND、3D DRAM 等先進記憶體為中心,高深寬比(HAR)製程已用於許多元件。Aspect 即是著眼於這類結構與微縮策略而設計。
以獨家的 IRCD 系統可量測完整輪廓,並已在多家客戶的元件上展現優異性能。
以非破壞方式量測高深寬比結構 Z 方向輪廓的線上紅外 OCD(IRCD)設備。
Aspect 是 Onto Innovation 的線上、非破壞式紅外光學 CD(IRCD)設備。可量測高深寬比結構 Z 方向(深度方向)的輪廓,實現關鍵製程的管理。特點是速度快、製程涵蓋範圍廣。
在密度與功耗持續微縮之際,以 3D NAND、3D DRAM 等先進記憶體為中心,高深寬比(HAR)製程已用於許多元件。Aspect 即是著眼於這類結構與微縮策略而設計。
以獨家的 IRCD 系統可量測完整輪廓,並已在多家客戶的元件上展現優異性能。
| 方式 | 紅外光學 CD(IRCD)・非破壞 |
|---|---|
| 量測 | 高深寬比結構的 Z 方向輪廓 |
| 對象 | 3D NAND・3D DRAM |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
Onto Innovation(總部:美國)