最後更新:2026年10月23日光學關鍵尺寸量測設備(OCD)

Aspect的特點與規格

Onto Innovation・光學關鍵尺寸量測設備(OCD)

以非破壞方式量測高深寬比結構 Z 方向輪廓的線上紅外 OCD(IRCD)設備。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Aspect 是 Onto Innovation 的線上、非破壞式紅外光學 CD(IRCD)設備。可量測高深寬比結構 Z 方向(深度方向)的輪廓,實現關鍵製程的管理。特點是速度快、製程涵蓋範圍廣。

在密度與功耗持續微縮之際,以 3D NAND、3D DRAM 等先進記憶體為中心,高深寬比(HAR)製程已用於許多元件。Aspect 即是著眼於這類結構與微縮策略而設計。

以獨家的 IRCD 系統可量測完整輪廓,並已在多家客戶的元件上展現優異性能。

主要規格

方式紅外光學 CD(IRCD)・非破壞
量測高深寬比結構的 Z 方向輪廓
對象3D NAND・3D DRAM

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

紅外 OCD(IRCD)
Z 方向的輪廓量測
非破壞・線上

主要用途

  • 3D NAND・3D DRAM 的 HAR 結構量測

製造商

Onto Innovation(總部:美國)

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資料來源

  1. Onto Innovation 官方產品頁面:Onto Innovation Aspect