最後更新:2026年10月23日光學關鍵尺寸量測設備(OCD)

Atlas III+的特點與規格

Onto Innovation・光學關鍵尺寸量測設備(OCD)

面向成熟技術、可靠度高的線上 OCD・薄膜量測設備,可對應 FEOL 至 BEOL 的廣泛膜層。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Atlas III+ 是 Onto Innovation 的線上 OCD・薄膜量測設備。為廣泛採用的機台,面向成熟技術,在各種製程層與元件上發揮靈活的性能。

從 FEOL 到 BEOL,對所有 OCD 與薄膜層進行穩健的量測。透過資訊量豐富的光學架構,以及 OCD・機器學習的強大分析引擎,在先進邏輯、3D NAND、DRAM 製程中展現優異性能。

具備獨家的光譜反射率與光譜橢圓偏光術解決方案,並與 Ai Diffract OCD 分析軟體搭配,以次 Å 的精密度與準確度管理量產的廣泛製程。

主要規格

方式光譜反射率+光譜橢圓偏光術
精度次 Å 等級
軟體Ai Diffract OCD 分析

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

光譜反射率+光譜橢圓偏光術
次 Å 的精度
Ai Diffract 分析

主要用途

  • 邏輯・3D NAND・DRAM 的 OCD 量測

製造商

Onto Innovation(總部:美國)

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資料來源

  1. Onto Innovation 官方產品頁面:Onto Innovation Atlas III+