Atlas III+ 是 Onto Innovation 的線上 OCD・薄膜量測設備。為廣泛採用的機台,面向成熟技術,在各種製程層與元件上發揮靈活的性能。
從 FEOL 到 BEOL,對所有 OCD 與薄膜層進行穩健的量測。透過資訊量豐富的光學架構,以及 OCD・機器學習的強大分析引擎,在先進邏輯、3D NAND、DRAM 製程中展現優異性能。
具備獨家的光譜反射率與光譜橢圓偏光術解決方案,並與 Ai Diffract OCD 分析軟體搭配,以次 Å 的精密度與準確度管理量產的廣泛製程。
面向成熟技術、可靠度高的線上 OCD・薄膜量測設備,可對應 FEOL 至 BEOL 的廣泛膜層。
Atlas III+ 是 Onto Innovation 的線上 OCD・薄膜量測設備。為廣泛採用的機台,面向成熟技術,在各種製程層與元件上發揮靈活的性能。
從 FEOL 到 BEOL,對所有 OCD 與薄膜層進行穩健的量測。透過資訊量豐富的光學架構,以及 OCD・機器學習的強大分析引擎,在先進邏輯、3D NAND、DRAM 製程中展現優異性能。
具備獨家的光譜反射率與光譜橢圓偏光術解決方案,並與 Ai Diffract OCD 分析軟體搭配,以次 Å 的精密度與準確度管理量產的廣泛製程。
| 方式 | 光譜反射率+光譜橢圓偏光術 |
|---|---|
| 精度 | 次 Å 等級 |
| 軟體 | Ai Diffract OCD 分析 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
Onto Innovation(總部:美國)