Atlas V 是 Onto Innovation 的 OCD・薄膜量測設備。專為量產設計，可實現 FinFET 與 GAA 邏輯、DRAM、3D NAND 元件的製程控制。
結合最先進的光學設計與獨家的 Ai Diffract 建模引擎。光學系統採用 DUV 4×4 穆勒矩陣光譜橢圓偏光術，以及 DUV 偏振垂直入射反射儀（NIOCD）的 2 通道架構，藉由兩者合併的豐富資訊，以高精度、高產能進行 OCD 分析。
設計目標是量測最重要且困難的製程，包括 CD-SEM 等無法看見的埋入結構。能量測 GAA 邏輯元件中個別奈米線的尺寸是其獨有能力，為實現先進元件製程控制的技術。曾獲得 2022 年的 Best of West 獎。