Aspect S的特點與規格

Aspect S 是 Onto Innovation 的線上、非破壞式模型式紅外反射率量測設備，可實現高深寬比結構、薄膜與磊晶結構的關鍵製程管理。

隨著高深寬比製程用於許多領域，監控碳膜硬遮罩與蝕刻後 3D 結構的尺寸與特性已成為必要。

以高產能、低持有成本、非接觸・非破壞的方式，量測積體電路製造中所用膜層與蝕刻結構的尺寸與均勻性。由於光斑小，也適合量測切割道上的標靶。