IMPULSE V 是 Onto Innovation 用於 CMP 製程的膜層量測設備。以強化的波前技術與 AI 分析，將精度提高 2 倍以上，提供更快的解決方案。
隨著對晶圓均勻性的要求日趨嚴格、垂直方向的微縮持續推進，各領域對 CMP 的需求都在增加。邏輯帶來新的電晶體設計與材料，DRAM 帶來新的材料與平坦化製程，3D NAND 則帶來疊層（deck）與層數的增加。
有整合式與獨立式，以源自 Atlas 平台的 DUV 光學系統與 AI 分析，提高 CMP 膜層量測的保真度與生產力。與 Atlas 連動，支援異常管理與製程能力（Cpk）的改善。