キオクシア（Kioxia）
旧東芝メモリ。NAND型フラッシュメモリの発明企業として世界第2位のシェアを持つ。BiCS FLASH（3D NAND）技術でスマホ・SSD・データセンター向けに供給。
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当サイトでの位置づけ
SemiraiのNANDフラッシュ・3D積層カテゴリでは、BiCS FLASH（3D NAND）技術で東芝メモリから独立後も世界第2位のNAND生産量を維持する国産半導体メーカーとして参照されます。
企業の強み
NAND型フラッシュメモリの発明企業（1987年東芝）
BiCS FLASH（3D NAND）で世界第2位のシェア
WD（Western Digital）との共同開発・製造体制
主要製品・ソリューション
NANDフラッシュ
- •BiCS FLASH 3D NAND
- •UFS
- •eMMC
SSD
- •エンタープライズSSD
- •クライアントSSD
製品分野・業態
関連装置カテゴリ
DUV露光装置
DUV露光装置（Deep Ultraviolet Lithography）は、ArFエキシマレーザー（193nm）またはKrFエキシマレーザー（248nm）を光源とした露光装置です。
メーカー 5 社NAND製造装置NAND Flash製造プロセスは、不揮発性メモリNAND Flashを製造するための半導体技術です。
メーカー 7 社成膜装置（CVD/ALD）成膜装置は、ウェハ表面に絶縁膜、導電膜、半導体膜などの薄膜を数百ナノメートルから原子レベルの厚さで形成する前工程の重要装置です。
メーカー 9 社エッチング装置エッチング装置は、ウェハ上の薄膜から不要な部分を除去し、微細な回路パターンを形成する前工程の中核装置です。
メーカー 7 社半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、キオクシア（Kioxia）を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
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