電子工業用薬液(高純度薬品)メーカー6

電子工業用薬液は、洗浄・エッチング・表面処理に使う高純度の酸・アルカリ・過酸化水素の総称です。硫酸・フッ酸・塩酸・アンモニア水・過酸化水素といった一般的な化学品ですが、半導体グレードでは金属不純物をppt級まで下げ、パーティクル数も粒径ごとに規格化されています。RCA洗浄のSC-1・SC-2、酸化膜除去のDHF、レジスト除去のSPMなど、混合比と温度によって役割が変わるのが特徴で、薬液そのものより「どう混ぜてどう使うか」が工程技術になります。

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主要特徴

洗浄・エッチングに使う高純度の酸・アルカリ・過酸化水素
金属不純物はppt級、パーティクルは粒径ごとに規格化される
SC-1/SC-2・DHF・SPMなど混合比と温度で役割が変わる
薬液単体より混合と使い方が工程技術の中身になる

スペック比較

このページの製品は種類が異なります。まず種類で絞り込み、同じ種類の製品どうしを比較してください。

種類メーカー製品主要用途
フッ化水素酸ステラケミファ超高純度フッ化水素酸(UP/SUP グレード)酸化膜エッチング・自然酸化膜除去
過酸化水素水三菱ガス化学高純度過酸化水素水SC-1/SC-2 洗浄・SPM・レジスト剥離
酸・アルカリ・溶剤関東化学(Kanto Chemical)EL グレード 硫酸・アンモニア水・IPAウェット洗浄・乾燥(IPA 置換)

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

代表製品・スペック

製品写真
ステラケミファ

超高純度フッ化水素酸(UP/SUP グレード)

ステラケミファの主力。酸化膜のウェットエッチングと洗浄に使うフッ化水素酸で、超高純度グレードでは世界シェア首位級。

薬液フッ化水素酸(HF)
グレードUP/SUP(超高純度)
濃度50%・希釈グレード(DHF)
管理指標金属不純物(ppt オーダー)・パーティクル
主要用途酸化膜エッチング・自然酸化膜除去
ステラケミファ の企業情報を見る →
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三菱ガス化学

高純度過酸化水素水

SC-1/SC-2 洗浄や硫酸過水(SPM)に使う酸化剤。分解しやすいため、安定剤と容器・輸送管理が品質を決める。

薬液過酸化水素水(H₂O₂)
濃度30 ~ 35 wt%
管理指標金属不純物・分解安定性・全有機炭素
主要用途SC-1/SC-2 洗浄・SPM・レジスト剥離
供給形態ドラム・コンテナ・バルク
三菱ガス化学 の企業情報を見る →
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関東化学(Kanto Chemical)

EL グレード 硫酸・アンモニア水・IPA

洗浄工程の主役になる酸・アルカリ・溶剤を電子工業用グレードで揃える。同じ薬品でも不純物レベルで用途が分かれる。

対象薬液H₂SO₄・NH₄OH・HCl・IPA・アセトン
グレードEL(電子工業用)グレード
管理指標金属不純物・パーティクル・水分
主要用途ウェット洗浄・乾燥(IPA 置換)
供給形態ボトル・ドラム・バルク供給
関東化学(Kanto Chemical) の企業情報を見る →

※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

メーカー

6社の主要メーカー

関東化学(Kanto Chemical)日本

超高純度試薬・プロセス化学品の専業メーカー。半導体ウェハ洗浄薬液(SPM・SC1・SC2・DHF等)・CMP薬液・フォトレジスト剥離液を高純度で供給。電子グレード薬液で日本の半導体製造の基盤を支える老舗企業。

洗浄薬液
EL grade 硫酸・過酸化水素(SPM)超高純度HF(DHF・BHF)
CMP薬液
CMP用スラリー・ポストCMP洗浄液
  • 電子工業用高純度薬品で業界標準の品質
  • 洗浄・エッチング・CMP全工程の薬品ラインナップ
会社詳細
ステラケミファ日本

フッ素化学を専門とする半導体材料メーカー。超高純度フッ化水素酸(HF)・フッ化アンモニウムなどの半導体ウェーハ洗浄・エッチング薬液で世界トップシェアを持つ。

半導体薬液
超高純度HF(フッ化水素酸)フッ化アンモニウム混酸エッチング液
電池材料
LiPF6(リチウム電池電解質)
  • 超高純度フッ化水素酸(HF)で世界首位。韓国・台湾・中国への輸出が主力
  • Li電池電解質(LiPF6)でも世界トップシェアを持つフッ素専業企業
会社詳細
住友化学日本

総合化学メーカー。半導体材料分野ではフォトレジスト(ArF・EUV)・偏光フィルム・有機EL材料で世界的存在感を持つ。特にEUVレジスト開発で日本材料メーカーとして重要な役割を担う。

フォトレジスト材料
ArF液浸レジストEUVレジスト(CAR系)KrFレジスト
半導体プロセス材料
光酸発生剤(PAG)レジストポリマー保護膜材料
  • ArF液浸・EUV向けフォトレジスト(化学増幅型CAR)の技術開発力
  • 光酸発生剤(PAG)・レジストポリマーの高純度合成技術
会社詳細
トクヤマ(Tokuyama)日本

多結晶シリコン(ポリシリコン)・電子工業用シリカ・高純度HClガスの日本有数のサプライヤー。半導体・太陽電池製造に不可欠なポリシリコンの世界上位メーカーであり、日本国内の一貫生産体制を持つ。

多結晶シリコン
半導体グレードPolysilicon太陽電池グレードPolysilicon
高純度化学品
HCl(超高純度)電子工業用シリカ
  • ポリシリコン生産量で世界上位(年産数千トン)
  • 電子工業用シリカで高い市場シェア
会社詳細
三菱ガス化学日本

半導体用過酸化水素水・特殊化学品を手掛ける国内化学メーカー。洗浄工程で使われる高純度薬液を中心に、半導体材料事業を展開する。

半導体材料
高純度過酸化水素水洗浄用薬液
  • 高純度薬液で国内大手
  • 洗浄工程向け化学品に強み
会社詳細
田中貴金属工業(Tanaka Precious Metals)日本

金・銀・白金族金属(プラチナ・ルテニウム・イリジウム・パラジウム)の精製・加工・リサイクルの日本最大手。半導体向けではボンディングワイヤ(金線・銅線)・スパッタリングターゲット・触媒材料を供給。

ボンディングワイヤ
PFC gold wirePalloyd合金ワイヤー
スパッタリングターゲット
Ru・Ir・Pt各種ターゲット
  • ボンディングワイヤ(金・銀・銅線)で世界トップクラス
  • 白金族金属の精製・リサイクル技術
会社詳細

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