剥離液・側壁除去液メーカー4社

剥離液・側壁除去液は、役目を終えたレジストや、エッチング時に側壁へ堆積した反応生成物（ポリマー残渣）を溶かして取り除く薬液です。単に溶解力が強ければよいわけではなく、下地の銅配線やLow-k膜、バリアメタルを侵さない選択性が同時に求められます。有機アミン系、フッ化物含有系などがあり、対象となる残渣の組成と下地材料の組み合わせごとに処方が作り分けられます。残渣が残ればビア抵抗の上昇として、下地を侵せば配線細りとして不良になります。

メーカー 4 社関連カテゴリ 3 件

主要特徴

不要レジストとエッチング側壁のポリマー残渣を溶解除去する

下地の銅配線・Low-k膜・バリアメタルを侵さない選択性が必須

有機アミン系・フッ化物含有系を対象組成に応じて使い分ける

残渣はビア抵抗上昇、過剰な溶解は配線細りとして現れる

スペック比較

複数の製品が掲載している項目を並べています。

項目	東京応化工業（TOK）有機系レジスト剥離液	三菱ガス化学レジスト剥離液・洗浄液	レゾナック（旧昭和電工）ポリマー除去液・洗浄液
液性	有機溶剤系・アミン系	アミン系・アルカリ性水系	フッ素系・有機系混合
処理温度の目安	40 ～ 80 °C	50 ～ 80 °C	室温～ 60 °C
対象	レジスト・アッシング残渣・ポリマー	厚膜レジスト・メッキレジスト	エッチング側壁ポリマー・金属残渣
管理指標	下地メタル腐食・Low-k ダメージ・残渣率	溶解速度・液寿命・金属腐食性	残渣除去率・下地選択性
主要用途	エッチング後の剥離・洗浄	バンプ形成後のレジスト剥離	ビア・コンタクトのエッチング後洗浄

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

代表製品・スペック

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東京応化工業（TOK）

有機系レジスト剥離液

アッシング後の残渣やレジストを溶かして落とす薬液。下地の金属や Low-k 膜を痛めない選択性が設計の中心になる。

液性	有機溶剤系・アミン系
処理温度の目安	40 ～ 80 °C
対象	レジスト・アッシング残渣・ポリマー
管理指標	下地メタル腐食・Low-k ダメージ・残渣率
主要用途	エッチング後の剥離・洗浄

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三菱ガス化学

レジスト剥離液・洗浄液

厚膜レジストやメッキ後レジストの剥離に使う薬液。バンプ形成工程のように膜が厚い場合は、溶解速度と液寿命が生産性を決める。

液性	アミン系・アルカリ性水系
処理温度の目安	50 ～ 80 °C
対象	厚膜レジスト・メッキレジスト
管理指標	溶解速度・液寿命・金属腐食性
主要用途	バンプ形成後のレジスト剥離

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レゾナック（旧昭和電工）

ポリマー除去液・洗浄液

ドライエッチングで側壁に生じるポリマーを除去する薬液。残すと次工程の成膜密着不良や配線抵抗の上昇につながる。

液性	フッ素系・有機系混合
対象	エッチング側壁ポリマー・金属残渣
処理温度の目安	室温～ 60 °C
管理指標	残渣除去率・下地選択性
主要用途	ビア・コンタクトのエッチング後洗浄

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※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。