CMP 設備的主要廠商
化學機械研磨（CMP）設備以研磨液與研磨墊把晶圓表面磨平，是多層內連線不可缺少的製程。設備市場實質上由應用材料與荏原製作所兩家組成。
市場結構
寡占：設備以應用材料與荏原製作所兩家為主。研磨液與研磨墊屬於另一條材料供應鏈。
主要廠商與強項
| 廠商 | 總部 | 強項 |
|---|---|---|
| 應用材料（Applied Materials） | 美國 | CMP 設備 |
| 荏原製作所（EBARA） | 日本 | CMP 設備、真空幫浦 |
表中順序不代表市占排名。有連結的廠商可查看在台據點與主力產品。
比較廠商時的觀點
平坦度與研磨均勻性
終點偵測與製程控制
研磨後清洗的整合
CMP 設備廠商的常見問題
CMP 設備有哪些廠商？
主要是應用材料與荏原製作所兩家。研磨液、研磨墊等耗材則由材料廠商供應。