曝光設備的主要廠商
曝光機是決定晶片線寬的關鍵設備。EUV 曝光機只有 ASML 供應，ArF 浸潤式也由 ASML 領先；成熟製程的 KrF、i-line 曝光機還有 Nikon 與 Canon。曝光前後的光阻塗佈與顯影則由塗佈顯影機負責。
市場結構
獨占：EUV 為 ASML 獨家供應。ArF 浸潤式 ASML 優勢明顯，Nikon 與 Canon 主要在成熟製程。塗佈顯影機以東京威力科創為主。
主要廠商與強項
| 廠商 | 總部 | 強項 |
|---|---|---|
| 艾司摩爾（ASML） | 荷蘭 | EUV 曝光機（唯一供應商）、ArF 浸潤式・ArF・KrF 曝光機 |
| Nikon | 日本 | ArF 浸潤式・ArF・KrF・i-line 曝光機 |
| Canon | 日本 | KrF・i-line 曝光機、奈米壓印微影 |
| 東京威力科創（TEL） | 日本 | 塗佈顯影機（Coater/Developer） |
| SCREEN（斯庫林） | 日本 | 塗佈顯影機 |
表中順序不代表市占排名。有連結的廠商可查看在台據點與主力產品。
比較廠商時的觀點
曝光波長（EUV・ArF 浸潤式・ArF・KrF・i-line）決定可處理的線寬
疊對精度與產能（每小時晶圓片數）
與塗佈顯影機的串接（In-line）
曝光設備廠商的常見問題
曝光機廠商有哪些？
主要是 ASML、Nikon 與 Canon 三家。EUV 曝光機只有 ASML 供應，Nikon 與 Canon 以 ArF、KrF、i-line 等深紫外光與成熟製程設備為主。
塗佈顯影機和曝光機是同一台嗎？
不是。塗佈顯影機負責塗佈光阻與顯影，通常與曝光機串接使用，主要廠商是東京威力科創。