清洗設備的主要廠商
清洗設備去除晶圓表面的微粒、金屬與有機汙染。製程越先進，清洗步驟越多。單晶圓清洗以 SCREEN 居首，東京威力科創、科林研發與韓國 SEMES 也是主要廠商。
市場結構
寡占：單晶圓清洗由 SCREEN 領先，東京威力科創其次，科林研發與 SEMES 也有一定份額。
主要廠商與強項
| 廠商 | 總部 | 強項 |
|---|---|---|
| SCREEN（斯庫林） | 日本 | 單晶圓清洗、批次式濕式清洗台 |
| 東京威力科創（TEL） | 日本 | 單晶圓清洗、刷洗 |
| 科林研發（Lam Research） | 美國 | 單晶圓清洗 |
| SEMES | 韓國 | 清洗設備 |
表中順序不代表市占排名。有連結的廠商可查看在台據點與主力產品。
比較廠商時的觀點
單晶圓式與批次式的選擇
藥液與乾燥方式（防止水痕與圖形倒塌）
微粒與金屬汙染的去除能力
清洗設備廠商的常見問題
晶圓清洗設備的龍頭是哪一家？
單晶圓清洗設備以 SCREEN 居首，東京威力科創其次。