薄膜沉積設備的主要廠商
薄膜沉積設備在晶圓上形成絕緣膜、金屬膜與半導體膜，依方法分為 PVD、CVD、ALD 與磊晶。應用材料在 PVD 領先，批次式爐管以國際電氣為代表，ALD 還有 ASM International。
市場結構
競爭：依方法不同各有強項：PVD 以應用材料為主，CVD・ALD 有應用材料、科林研發、東京威力科創、ASM International 競爭，批次式爐管以國際電氣、東京威力科創為主。
主要廠商與強項
| 廠商 | 總部 | 強項 |
|---|---|---|
| 應用材料（Applied Materials） | 美國 | PVD、CVD、ALD、磊晶 |
| 科林研發（Lam Research） | 美國 | CVD、ALD、電鍍（ECD） |
| 東京威力科創（TEL） | 日本 | CVD、ALD、批次式爐管 |
| 國際電氣（KOKUSAI ELECTRIC） | 日本 | 批次式薄膜沉積・熱處理 |
| ASM International | 荷蘭 | ALD、磊晶 |
表中順序不代表市占排名。有連結的廠商可查看在台據點與主力產品。
比較廠商時的觀點
成膜方法（PVD・CVD・ALD・磊晶）與膜種
階梯覆蓋率與膜厚均勻性
單晶圓式與批次式的產能差異
薄膜沉積設備廠商的常見問題
薄膜沉積設備有哪些廠商？
應用材料、科林研發、東京威力科創、國際電氣與 ASM International 是主要廠商，各自在 PVD、CVD、ALD、批次式爐管等不同方法上有優勢。