佈植腔（End Station，終端站）是指離子佈植機中固定晶圓、實際打入離子束的部分。離子佈植機依序由產生離子的離子源、只篩選目標離子的質量分析部、將離子加速・整形的束線（beam line），以及對晶圓進行佈植的終端站所構成。終端站保持真空，透過真空預抽室（load lock）送入與取出晶圓，並將完成佈植的晶圓送回傳送系統。
終端站的任務是將規定量（劑量）的離子均勻打入整片晶圓。由於離子束的截面比晶圓小，因此會以電氣・磁場方式偏轉離子束（掃描）、以機械方式移動晶圓，或兩者並用，對整片晶圓進行佈植。過去主流是將大量晶圓排在旋轉圓盤上一次處理的批次式，現在則以每次處理1片的單片式為主。晶圓固定在靜電吸盤等平台（platen）上，冷卻佈植中產生的熱，並精密控制晶圓的傾斜與旋轉角度，以避免因晶體方向造成的通道效應。
劑量管理與帶電對策也是終端站的重要功能。以放置在晶圓附近的法拉第杯量測離子束電流，並依時間積分來控制佈植劑量。持續打入正離子會使晶圓上的絕緣膜或光阻帶電，可能破壞薄閘極氧化層，因此配備了照射低能量電子以抵消電荷的電漿泛射槍（plasma flood gun）。光阻釋出氣體造成的真空度變化也會導致劑量誤差，因此同樣須加以管理。