射束線式離子佈植機是什麼

射束線式離子佈植機是以質量分析磁鐵分離離子源產生的雜質離子種類，再以高能量加速打入晶圓的設備。可高精度控制佈植的離子種類、能量（keV～MeV）與劑量（cm⁻²），對應從淺接面（超淺接面）形成到深井形成的廣泛用途。主要供應商為應用材料（Applied Materials）的 VIISTA、Quantum 系列與 Axcelis Technologies。

重點整理

以質量分析磁鐵純粹分離離子種類，防止雜質混入
能量與劑量可獨立控制（對應淺接面至深井區域）
分為高電流型（生產力優先）、中電流型（精度優先）、高能量型 3 個系統
應用材料（Applied Materials）與 Axcelis 是全球市場主要 2 家
針對 FinFET、GAA，多軸、高傾角佈植功能日益重要

常見問題

什麼是射束線式離子佈植機？
射束線式離子佈植機是由離子源、質量分析磁鐵、加速管與掃描系統構成的精密離子佈植設備。以高能量將雜質離子打入晶圓，控制電晶體的電氣特性。可高精度控制雜質分布，廣泛用於先進邏輯與記憶體製造。
離子佈植機的主要廠商有哪些？
應用材料（Applied Materials，VIISTA、Quantum 系列）與 Axcelis Technologies（Purion 系列）是全球 2 大廠商。在日本，日新離子機器（NISSIN ION EQUIPMENT）在日本國內市場擁有市占率。
射束線式與電漿摻雜有什麼不同？
射束線式以質量分析分離出純粹的離子種類進行高精度佈植，但產能偏低。電漿摻雜（PLAD）的特點是高產能、低能量，適合源極／汲極延伸區等大量佈植。

相關用語

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